[發明專利]一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置

在審

• 申請號: 202110207277.1
• 申請日: 2021-02-24
• 公開（公告）號: CN113001727A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 韓守理
• 申請（專利權）人: 韓守理
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B28B17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，包括殼體(1)，其特征在于：所述殼體(1)內部的底側固定安裝有定位塊(2)，所述定位塊(2)的內部滑動連接有滑動齒條(3)，所述滑動齒條(3)的表面滑動連接有限位塊(4)，所述滑動齒條(3)遠離殼體(1)的一端焊接有夾緊塊(5)，所述夾緊塊(5)靠近限位塊(4)的一側焊接有緊固彈簧(6)，所述殼體(1)內部的底側固定安裝有底座(7)，所述滑動齒條(3)的頂部嚙合有錐齒輪(8)，所述錐齒輪(8)的頂部焊接有連接軸(9)，所述連接軸(9)的表面轉動連接有定位套(10)，所述定位套(10)靠近殼體(1)的一側螺紋連接有支架(11)，所述錐齒輪(8)的遠離殼體(1)的一側焊接有螺桿(12)，所述螺桿(12)的表面轉動連接有轉動套(13)，所述轉動套(13)遠離殼體(1)的一側焊接有滑桿(14)，所述滑桿(14)的表面滑動連接有滑塊(15)，所述滑塊(15)的正面螺紋連接有安裝板(16)，所述安裝板(16)遠離殼體(1)的一側固定安裝有噴頭(17)。

2.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述定位塊(2)、滑動齒條(3)以及限位塊(4)均設置有兩個且規格相同，對稱分布于殼體(1)內部的兩側，其中定位塊(2)和限位塊(4)固定安裝在殼體(1)的底部，滑動齒條(3)滑動連接在定位塊(2)和限位塊(4)的內部。

3.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述夾緊塊(5)共設置有兩個且規格相同，對稱分布于兩個滑動齒條(3)遠離殼體(1)的一端，緊固彈簧(6)共設置有四個且規格相同，對稱分布于夾緊塊(5)的正反面，一端與夾緊塊(5)固定連接，另一端與限位塊(4)固定連接，底座(7)固定安裝在兩個夾緊塊(5)之間。

4.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述錐齒輪(8)共設置有八個且規格相同，兩兩相互嚙合，分別固定安裝在兩個連接軸(9)的兩端，其中底端的錐齒輪(8)與滑動齒條(3)相互嚙合，頂端與錐齒輪(8)與螺桿(12)固定連接。

5.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述定位套(10)和支架(11)均設置有兩個且規格相同，對稱分布于殼體(1)內部的兩側，其中定位套(10)與連接軸(9)轉動連接，支架(11)一端與定位套(10)固定連接，另一端與殼體(1)固定連接。

6.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述螺桿(12)共設置有兩個，分別與兩側的錐齒輪(8)固定連接，轉動套(13)共設置有三個，分別轉動連接在兩個螺桿(12)的兩端以及兩個螺桿(12)的連接處，滑桿(14)固定安裝在兩側的轉動套(13)之間，并且位于螺桿(12)的上側。

7.根據權利要求1所述的一種避免浪費且噴釉均勻的陶瓷加工用釉漿噴涂裝置，其特征在于：所述滑塊(15)和安裝板(16)均設置有兩個且規格相同，對稱分布于兩個螺桿(12)的表面，其中滑塊(15)的內部設置有螺紋與螺桿(12)相適配，安裝板(16)固定安裝在滑塊(15)的正面，噴頭(17)設置有不少于十個，均勻分布于兩個安裝板(16)遠離殼體(1)的一側。