[發明專利]鐠化合物作為鎳沉積層晶粒細化劑中的應用在審
| 申請號： | 202110206041.6 | 申請日： | 2021-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN113046793A | 公開（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發明（設計）人： | 徐仰濤;王雅寧;裴亮 | 申請（專利權）人： | 蘭州理工大學 |
| 主分類號： | C25D3/12 | 分類號： | C25D3/12 |
| 代理公司： | 北京酷愛智慧知識產權代理有限公司 11514 | 代理人： | 周俊 |
| 地址： | 730050 甘肅*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化合物 作為 沉積 晶粒 細化 中的 應用 | ||
【權利要求書】：
1.鐠化合物作為鎳沉積層晶粒細化劑中的應用。
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所述鐠化合物選自氯化鐠、硝酸鐠和硫酸鐠中的至少一種。
3.一種鎳沉積層晶粒細化劑，其特征在于，包括權利要求1或2中的鐠化合物。
4.一種鎳沉積層的電鍍方法，其特征在于，包括在含鎳的電解液中添加權利要求1或2中的鐠化合物。
5.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述鐠化合物的添加終濃度為0.2～0.8g/L。
6.根據權利要求4或5所述的電鍍方法，其特征在于，所述鐠化合物的添加終濃度為0.6g/L。
7.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述電鍍過程中電解液溫度為45～55℃。
8.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述電鍍采用的電流大小為1.8～2.2A。
9.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述電鍍時間為8～12min。
10.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述含鎳的電解液為工業電解液。
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