[發(fā)明專利]基于條紋追蹤的光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110205746.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-02-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112985300B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安其昌;劉欣悅;李洪文;王越 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G01B11/24 | 分類號(hào): | G01B11/24;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 巴翠昆 |
| 地址: | 130033 吉林省長(zhǎng)春市*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 條紋 追蹤 光學(xué) 元件 輪廓 檢測(cè) 方法 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種基于條紋追蹤的光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),包括:利用邁克爾遜干涉系統(tǒng)對(duì)標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面進(jìn)行測(cè)試,獲取干涉條紋圖;根據(jù)干涉條紋圖得到光程差,從光程差中提取相位信息,并根據(jù)相位信息,獲取標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面的矢高信息;以干涉條紋圖為輸入,以標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面的矢高信息為輸出,構(gòu)建并訓(xùn)練第一神經(jīng)網(wǎng)絡(luò);同理對(duì)待測(cè)光學(xué)元件表面進(jìn)行逐點(diǎn)掃描,獲取待測(cè)干涉條紋圖;將待測(cè)干涉條紋圖輸入至第一神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),獲取待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息;根據(jù)邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息,獲取待測(cè)光學(xué)元件的三維輪廓。這樣的檢測(cè)方法檢測(cè)范圍廣且測(cè)量精度高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及面形檢測(cè)領(lǐng)域,特別是涉及一種基于條紋追蹤的光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。
背景技術(shù)
針對(duì)合成孔徑望遠(yuǎn)鏡中高精度、大尺度的光學(xué)元件的這個(gè)自由曲面面形測(cè)量,它的精度大概在1微米之下,50納米之上。然而在米級(jí)尺度上,針對(duì)微米級(jí)的這種變化,進(jìn)行亞微米級(jí)的精度的檢測(cè),目前仍沒(méi)有很好的方法。
現(xiàn)有技術(shù)中,主要針對(duì)自由曲面的面型測(cè)量一般是采用計(jì)算機(jī)生成的全息圖(Computer-GeneratedHolograms,CGH)、擺臂輪廓儀、激光跟蹤儀或子孔徑拼接方式進(jìn)行檢測(cè)。這些方式都有各自的缺點(diǎn),如精度不夠,檢測(cè)范圍不能達(dá)到很大的范圍,在測(cè)量時(shí)動(dòng)態(tài)范圍不夠。
因此,如何實(shí)現(xiàn)大范圍大尺度精確測(cè)量光學(xué)元件的面形,是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種基于條紋追蹤的光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),可以高精度地獲取光學(xué)元件的三維輪廓。其具體方案如下:
一種基于條紋追蹤的光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法,包括:
利用邁克爾遜干涉系統(tǒng)對(duì)標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面進(jìn)行測(cè)試,獲取對(duì)應(yīng)的干涉條紋圖;
根據(jù)所述干涉條紋圖得到光程差,從所述光程差中提取相位信息,并根據(jù)所述相位信息,獲取所述標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面的矢高信息;
以所述干涉條紋圖為輸入,以所述標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面的矢高信息為輸出,構(gòu)建并訓(xùn)練第一神經(jīng)網(wǎng)絡(luò);
利用所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)對(duì)待測(cè)光學(xué)元件表面進(jìn)行逐點(diǎn)掃描,獲取不同點(diǎn)對(duì)應(yīng)的待測(cè)干涉條紋圖;
將所述待測(cè)干涉條紋圖輸入至訓(xùn)練好的所述第一神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),獲取所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息;
根據(jù)所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息,獲取所述待測(cè)光學(xué)元件的三維輪廓。
優(yōu)選地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法中,根據(jù)所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息,獲取所述待測(cè)光學(xué)元件的三維輪廓,具體包括:
根據(jù)所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息,通過(guò)極大似然估計(jì)法得到所述待測(cè)光學(xué)元件三維表面的重建。
優(yōu)選地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述光學(xué)元件輪廓檢測(cè)方法中,根據(jù)所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息,獲取所述待測(cè)光學(xué)元件的三維輪廓,具體包括:
以所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在測(cè)試時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件表面的矢高信息組成的離散點(diǎn)云數(shù)據(jù)為輸入,以澤尼克多項(xiàng)式系數(shù)為輸出,構(gòu)建并訓(xùn)練第二神經(jīng)網(wǎng)絡(luò);
將所述邁克爾遜干涉系統(tǒng)在逐點(diǎn)掃描時(shí)的測(cè)量點(diǎn)坐標(biāo)和所述待測(cè)光學(xué)元件表面每個(gè)點(diǎn)的矢高信息組成的離散點(diǎn)云數(shù)據(jù)輸入至訓(xùn)練好的所述第二神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),獲取所述待測(cè)光學(xué)元件的三維輪廓。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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