[發(fā)明專利]一種石墨烯線柵偏振器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110205240.5 | 申請(qǐng)日： | 2021-02-24 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113031144A | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周旭;唐志列;徐小志;祁晉林 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 華南師范大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G02B5/30 | 分類號(hào)： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 廣州駿思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44425 | 代理人： | 吳靜芝 |
| 地址： | 510006 廣東省廣州市番禺區(qū)*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 石墨 烯線柵 偏振 及其 制備 方法 | ||
1.一種石墨烯線柵偏振器，其特征在于：包括光學(xué)基底和設(shè)于所述光學(xué)基底上的石墨烯線柵，所述石墨烯線柵由多個(gè)石墨烯條帶組成，所述石墨烯條帶是由石墨烯形成的條形帶狀薄層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述石墨烯條帶由厚度1-200層的石墨烯形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述石墨烯條帶的寬度為0.005～10微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：工作波段在可見光區(qū)域到近中紅外區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述石墨烯線柵在所述光學(xué)基底上呈周期性排列或非周期性排列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述石墨烯線柵在所述光學(xué)基底上呈周期性排列，其線柵周期為1-10000納米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述光學(xué)基底為光學(xué)玻璃。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的石墨烯線柵偏振器，其特征在于：所述光學(xué)基底的尺寸大小在2微米-100厘米之間。
9.權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的石墨烯線柵偏振器的制備方法，其特征在于：用模板法制備石墨烯線柵：將沉積有線柵形狀的催化劑的襯底倒置在光學(xué)基底上，隨后用化學(xué)氣相沉積法在光學(xué)基底上生長石墨烯線柵。
10.權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的石墨烯線柵偏振器的制備方法，其特征在于：先用機(jī)械剝離方法或者化學(xué)氣相沉積法在光學(xué)基底上設(shè)置石墨烯層，再通過對(duì)所述石墨烯層進(jìn)行光刻或化學(xué)刻蝕，得到設(shè)于所述光學(xué)基底上的石墨烯線柵。
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