[發(fā)明專利]一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110205191.5 | 申請日: | 2021-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN112851122B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭志鋼;袁堅;鄭偉宏;杜曉歐;張茂森;劉皓;薛瑞峰;史連瑩;陳暉 | 申請(專利權(quán))人: | 河北省沙河玻璃技術(shù)研究院;武漢理工大學(xué) |
| 主分類號: | C03C10/00 | 分類號: | C03C10/00;C03C21/00;C03B32/02 |
| 代理公司: | 河北知亦可為專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 13115 | 代理人: | 張梅申 |
| 地址: | 054100 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 手機 背板 斷裂韌性 玻璃 及其 制備 方法 | ||
1.一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃,其特征在于,包括:
主晶相,質(zhì)量含量為30~60%,為硅堿鈣石;
次晶相,質(zhì)量含量為5~10%,為硬硅鈣石、氟化鈣中的一種或兩種;
其余為玻璃相;
以質(zhì)量百分含量計,包括以下組分:50~63%SiO2、1~5% Al2O3、15~20%CaO、6~12%Na2O、2~6%K2O、3~5%Li2O、3~6%CaF2、0~2%TiO2、1~3% ZrO2、0~3% Y2O3、3~7% B2O3、0~3% P2O5、0.1~0.5%Sb2O3。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃,其特征在于,基礎(chǔ)玻璃組成含有3-5%的Li2O,且Li2O/(Na2O+K2O)的質(zhì)量比為1/4~1/2,所述的微晶玻璃是由所述的基礎(chǔ)玻璃制備而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃,其特征在于,F(xiàn)以CaF2的形式引入,作為主要晶核劑,TiO2+ZrO2作為次要晶核劑,且TiO2+ZrO2質(zhì)量含量總和小于CaF2含量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3任意一項所述的一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃,其特征在于,以質(zhì)量百分含量計,包括以下組分:52~63%SiO2、1.5~4.5%Al2O3、15~19%CaO、11~18%Na2O+K2O+Li2O、3~6%CaF2、1~5%TiO2+ZrO2、0~5%B2O3+P2O5、0.5~3%Y2O3、0.1~0.5%Sb2O3。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃,其特征在于,以質(zhì)量百分含量計,包括以下組分:SiO258.9%、Al2O3 2.8%、CaO16.5%、Na2O+K2O+Li2O 11.5%、CaF2 4%、TiO2+ZrO2 1.2%、B2O3+P2O5 3.8%、Y2O3 0.8%、0.5% Sb2O3。
6.一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、制備基礎(chǔ)玻璃:稱料,1350~1450℃保溫6~12小時熔化;
S2、成形、退火、冷加工;
S3、低溫核化、高溫晶化;
S4、化學(xué)強化。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種手機背板用高斷裂韌性微晶玻璃的制備方法,其特征在于,所述步驟S3中,低溫核化溫度為500℃~650℃,保溫時間為0.5~12h,高溫晶化溫度為730℃~950℃,保溫時間為0.5~12h。
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C03C10-16 .含鹵素的結(jié)晶相
C03C10-06 ..二價金屬氧化物的鋁硅酸鹽結(jié)晶相,例如鈣長石、礦渣陶瓷





