[發明專利]一種光學水印成像裝置及防偽設備

有效

• 申請號: 202110203116.5
• 申請日: 2021-02-22
• 公開（公告）號: CN112764137B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 李桂林;汪昱坤;張靜;劉暢;葛宏偉
• 申請（專利權）人: 武漢華工圖像技術開發有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張萌

本申請提供一種光學水印成像裝置及防偽設備，屬于光學加密技術領域。該光學水印成像裝置包括：微透鏡層，由多個微透鏡排列而成；成像載體，設置在所述微透鏡層下方；圖文層，設置在所述成像載體下方，所述圖文層嵌入有多個微圖文結構；每個所述微圖文結構中均設置有n個編碼區域，且每個所述微圖文結構中所設置的n個編碼區域的設置位置相同，每個所述微圖文結構中的n個編碼區域對應一個像素點的成像；每個所述微圖文結構中的n個編碼區域對應的像素點組合形成水印編碼圖案。通過上述方式，提高了微透鏡成像薄膜的防偽能力以及安全性，解決了微透鏡成像薄膜易被仿制的問題。

技術領域

本申請涉及光學加密技術領域，具體而言，涉及一種光學水印成像裝置及防偽設備。

背景技術

微透鏡是一種常見的光學元件，它屬于被動光學元件，在光學系統中用來會聚、發散光輻射。目前，利用微透鏡制作而成的成像薄膜能夠廣泛的運用到卡片、貨幣、包裝中。但是，現有的微透鏡成像薄膜安全性低、容易被仿制。

發明內容

本申請實施例的目的在于提供一種光學水印成像裝置及防偽設備，以改善現有的微透鏡成像薄膜安全性低、容易被仿制的問題。

本發明是這樣實現的：

第一方面，本申請實施例提供一種光學水印成像裝置，包括：微透鏡層，由多個微透鏡排列而成；成像載體，設置在所述微透鏡層下方；圖文層，設置在所述成像載體下方，所述圖文層嵌入有多個微圖文結構；每個所述微圖文結構中均設置有n個編碼區域，且每個所述微圖文結構中所設置的n個編碼區域的設置位置相同，每個所述微圖文結構中的n個編碼區域對應一個像素點的成像；每個所述微圖文結構中的n個編碼區域對應的像素點組合形成水印編碼圖案。

在本申請實施例中，通過在圖文層中的每個微圖文結構中均設置n個編碼區域，且每個微圖文結構中所設置的n個編碼區域的設置位置相同，每個微圖文結構中的n個編碼區域對應一個水印編碼圖案的像素點的成像，進而使得水印編碼圖案能夠隱藏于圖文層中，需要利用人眼的視角暫留效應來完成圖案的獲取，通過上述方式，提高了微透鏡成像薄膜的防偽能力以及安全性，解決了微透鏡成像薄膜易被仿制的問題。

結合上述第一方面提供的技術方案，在一些可能的實現方式中，所述多個微透鏡采用正六邊形交錯的排列方式排列。

在本申請實施例中，采用上述正六邊形交錯排列方式可以使得微透鏡在整個微透鏡層的占比最大化，在微透鏡層面積及微透鏡大小和結構確定的情況下，微透鏡的排列更加密集，單位面積的微透鏡數目越多。進而使得單位面積的聚焦點越多，微透鏡成像裝置的成像質量越好。

結合上述第一方面提供的技術方案，在一些可能的實現方式中，所述微透鏡層的頂部到所述圖文層的距離等于所述微透鏡的焦距；所述微透鏡的焦距為：其中，f表示所述微透鏡的焦距，N表示折射率，R表示所述微透鏡的曲率半徑；所述微透鏡的曲率半徑為：其中，h表示所述微透鏡的厚度，l為所述微透鏡的直徑。

在本申請實施例中，通過設置微透鏡層的頂部到圖文層的距離等于微透鏡的焦距以便于更好的成像。

結合上述第一方面提供的技術方案，在一些可能的實現方式中，所述微透鏡的直徑為29微米；相鄰的所述微透鏡的之間的距離為1微米。

在本申請實施例中，采用直徑29微米的微透鏡以及設定微透鏡層中的微透鏡的排列周期為30微米，既易于加工生產且保證了微透鏡的成像質量。

結合上述第一方面提供的技術方案，在一些可能的實現方式中，所述圖文層中的微圖文結構與所述微透鏡層中的微透鏡在位置上一一對應設置。

在本申請實施例中，通過設置圖文層中的微圖文結構與所述微透鏡層中的微透鏡在位置上一一對應設置以便于更好的成像。