[發(fā)明專利]滅菌方法以及滅菌裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110202567.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-02-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113440634A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高橋裕一;溝部智之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三浦工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | A61L2/20 | 分類號(hào): | A61L2/20;A61L2/26;A61L101/22;A61L101/10 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 劉文海 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滅菌 方法 以及 裝置 | ||
1.一種滅菌方法,其對(duì)收容于腔室的滅菌對(duì)象物進(jìn)行滅菌,其中,
所述滅菌方法包括:
第一蒸氣注入工序,向所述腔室的內(nèi)部注入由過(guò)氧化氫的第一水溶液生成的蒸氣;
臭氧注入工序,在所述第一蒸氣注入工序后,向所述腔室的內(nèi)部注入臭氧氣體;以及
第二蒸氣注入工序,在所述臭氧注入工序后,向所述腔室的內(nèi)部注入由過(guò)氧化氫的第二水溶液生成的蒸氣,
所述第二水溶液所含的過(guò)氧化氫的總量為所述第一水溶液所含的過(guò)氧化氫的總量以下。
2.一種滅菌裝置,其中,
所述滅菌裝置具備:
腔室,其收容滅菌對(duì)象物;
蒸發(fā)器,其與所述腔室連通,并使過(guò)氧化氫的第一水溶液、或者過(guò)氧化氫的第二水溶液蒸發(fā)并且填充;
臭氧產(chǎn)生器,其與所述腔室連通,并生成臭氧氣體;以及
控制部,其對(duì)在所述蒸發(fā)器中生成的蒸氣、或者在所述臭氧產(chǎn)生器中生成的臭氧氣體向所述腔室的內(nèi)部的注入動(dòng)作進(jìn)行控制,
所述第二水溶液所含的過(guò)氧化氫的總量為所述第一水溶液所含的過(guò)氧化氫的總量以下,
所述控制部使由所述第一水溶液生成的蒸氣向所述腔室的內(nèi)部注入,然后使臭氧氣體向所述腔室的內(nèi)部注入,并在注入臭氧氣體后使由所述第二水溶液生成的蒸氣向所述腔室的內(nèi)部注入,從而對(duì)所述滅菌對(duì)象物進(jìn)行滅菌。
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