[發明專利]一種非厄米系統自旋壓縮態的制備方法有效
| 申請號： | 202110201380.5 | 申請日： | 2021-02-23 |
| 公開（公告）號： | CN112994691B | 公開（公告）日： | 2022-05-20 |
| 發明（設計）人： | 陳星;張升康;薛瀟博;趙環;王暖讓;張璐;葛軍 | 申請（專利權）人： | 北京無線電計量測試研究所 |
| 主分類號： | H03L7/26 | 分類號： | H03L7/26 |
| 代理公司： | 中國航天科工集團公司專利中心 11024 | 代理人： | 張國虹 |
| 地址： | 100854 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 非厄米 系統 自旋 壓縮 制備 方法 | ||
1.一種非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，包括：
提供一非厄米系統，所述非厄米系統具有其原子自旋態依賴于原子相互作用的能級結構；
向所述非厄米系統施加囚禁勢場，使原子被束縛于周期性的囚禁勢阱中，以得到原子的雙占據態；
通過光締合將原子從雙占據態變到分子態，記錄來自所述囚禁勢阱的自旋波動信號，從所述自旋波動信號中確定自旋壓縮的變化情況；
根據所述自旋壓縮的變化情況，測量自旋壓縮參數最小時的自旋壓縮性質，以產生自旋壓縮態。
2.根據權利要求1所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述自旋壓縮參數為垂直于平均自旋方向時的最小自旋波動與自旋平均值的比值。
3.根據權利要求1所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述非厄米系統為三維冷原子系統。
4.根據權利要求3所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，向所述非厄米系統施加囚禁勢場，包括：在x、y和z三個方向對冷原子施加囚禁勢場。
5.根據權利要求1所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述能級結構采用超精細能級。
6.根據權利要求5所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述原子自旋態包括自旋向上狀態，位于超精細能級的上能級。
7.根據權利要求6所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述原子自旋態包括自旋向下狀態，位于超精細能級的下能級。
8.根據權利要求1所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，測量自旋壓縮參數最小時的自旋壓縮性質，包括：確定制備自旋壓縮態的實驗參數的步驟。
9.根據權利要求8所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，所述確定制備自旋壓縮態的實驗參數通過Matlab程序計算得到。
10.根據權利要求9所述的非厄米系統自旋壓縮態的制備方法，其特征在于，還包括：通過計算本征態得到制備自旋壓縮態的最佳實驗參數。
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