[發明專利]測量裝置、基片處理系統和測量方法在審
| 申請號: | 202110200735.9 | 申請日: | 2021-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN113340337A | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發明(設計)人: | 藤原慎;尾上幸太朗;田中茂喜 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | G01D21/02 | 分類號: | G01D21/02;G01D11/00;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;王昊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 裝置 處理 系統 測量方法 | ||
本發明提供一種能夠對圖案形狀長期地高精度地進行測量的技術。本發明的一個方式的測量裝置包括輸送部、拍攝部、攝像機高度測量部、溫度檢測部和控制部。輸送部輸送形成有圖案的基片。拍攝部配置在輸送部的上方,拍攝載置于輸送部的基片的圖案。攝像機高度測量部配置在拍攝部的附近,測量從形成有圖案基片的圖案面起至拍攝部的透鏡為止的高度。溫度檢測部檢測拍攝部周邊的多個部位的溫度。控制部控制各部。此外,控制部基于由溫度檢測部檢測的拍攝部周邊的多個部位的溫度,校正由攝像機高度測量部測量的從基片的圖案面起至拍攝部的透鏡為止的高度。
技術領域
本發明的實施方式涉及測量裝置、基片處理系統和測量方法。
背景技術
在現有技術中,已知有一種用拍攝裝置拍攝形成有圖案的基片,基于通過拍攝所得到的圖案的圖像信息測量圖案的形狀的技術(參照專利文獻1)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2015-72257號公報
發明內容
發明要解決的技術問題
本發明提供一種能夠長期高精度地測量圖案形狀的技術。
用于解決技術問題的技術手段
本發明的一個方式的測量裝置包括輸送部、拍攝部、攝像機高度測量部、溫度檢測部和控制部。輸送部輸送形成有圖案的基片。拍攝部配置在上述輸送部的上方,拍攝載置于上述輸送部的上述基片的圖案。攝像機高度測量部配置在上述拍攝部的附近,測量從形成有上述圖案上述基片的圖案面起至上述拍攝部的透鏡為止的高度。溫度檢測部檢測上述拍攝部周邊的多個部位的溫度。控制部控制各部。此外,上述控制部基于由上述溫度檢測部檢測的上述拍攝部周邊的多個部位的溫度,校正由上述攝像機高度測量部測量的從上述基片的圖案面起至上述拍攝部的透鏡為止的高度。
發明效果
依照本發明,能夠長期高精度地測量圖案形狀。
附圖說明
圖1是表示實施方式的基片處理系統的結構的示意說明圖。
圖2是表示實施方式的線寬測量裝置的結構的示意側面圖。
圖3是表示實施方式的線寬測量裝置的的結構的示意立體圖。
圖4是實施方式的測量控制裝置的框圖。
圖5是用于說明存儲圖案形狀和位置信息的、基片的示意放大圖。
圖6是表示實施方式的支承部的結構的示意側面圖。
圖7是表示實施方式的支承部的結構的示意側面圖。
圖8是表示實施方式的線寬測量處理的處理流程的流程圖。
圖9是表示實施方式的拍攝處理的處理流程的流程圖。
圖10是表示實施方式的學習數據的獲取處理的處理流程的流程圖。
圖11是說明實施方式的拍攝處理中的拍攝開始時刻的圖。
圖12是表示實施方式的是否有基于多個部位的溫度的校正處理時的拍攝處理的錯誤次數的圖。
圖13是表示實施方式的變形例的拍攝處理的處理流程的流程圖。
圖14是說明實施方式的變形例的拍攝處理中的拍攝開始時刻的圖。
具體實施方式
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