[發明專利]一種足部測量裝置、多維度足部特征分析系統及方法

在審

• 申請號: 202110197904.8
• 申請日: 2021-02-22
• 公開（公告）號: CN112998691A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 古瑋明
• 申請（專利權）人: 福建雙馳智能信息技術有限公司
• 主分類號: A61B5/103
• 分類號: A61B5/103
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供了一種足部測量裝置、多維度足部特征分析系統及方法，該足部測量裝置包括基座，所述基座中央設有壓力分布測量臺；所述基座四角設有深度相機組件，所述深度相機組件包括深度相機、相機支撐立柱及相機橫向支撐架；所述相機支撐立柱安裝于所述基座上，所述深度相機安裝于所述相機支撐立柱上，由所述相機橫向支撐架固定安裝；所述深度相機的鏡頭朝向所述壓力分布測量臺布置；所述壓力分布測量臺內嵌有重量測量部件及終端計算設備。本發明可以在開放環境下獲取用戶的足部數據，快速高效的分析多維度足部特征，并提供了足部測量裝置的校準和標定功能。

技術領域

本發明屬于足部測量技術領域，具體涉及一種足部測量裝置、多維度足部特征分析系統及方法。

背景技術

現有足部測量技術主要分為人工測量和自動測量，人工測量存在效率低、誤差大、可測量參數少等缺陷，已逐漸被自動測量技術取代。

自動測量技術又分為基于圖像拼接的三維足型測量技術和足底壓力分布測量技術，其中基于圖像拼接的三維足型測量技術僅可測量足部外輪廓特征參數，測量精度受相機安裝精度的影響，經過一段時間的使用后由于相機相對位置發生變動使得三維建模精度降低；足底壓力分布測量技術多采用點陣壓阻式柔性力敏傳感器來采集足底壓力分布信息，此類傳感器存在遲滯性差、長時間測量壓力值增大等弊端。

發明內容

本發明的目的是提供一種足部測量裝置、多維度足部特征分析系統及方法，以解決上述技術問題。

本發明提供了一種足部測量裝置，包括基座，所述基座中央設有壓力分布測量臺；所述基座四角設有深度相機組件，所述深度相機組件包括深度相機、相機支撐立柱及相機橫向支撐架；所述相機支撐立柱安裝于所述基座上，所述深度相機安裝于所述相機支撐立柱上，由所述相機橫向支撐架固定安裝；所述深度相機的鏡頭朝向所述壓力分布測量臺布置；

所述壓力分布測量臺內嵌有重量測量部件及終端計算設備；

所述壓力分布測量臺包括載物墊、支撐立柱和不透明機殼；所述不透明機殼固定在所述基座中央，所述載物墊設于不透明機殼上以形成一不透明的容納空間，所述容納空間內設置有水平儀；所述支撐立柱豎直安裝在所述基座上，包括上段立柱和下段立柱；所述重量測量部件夾在上段立柱和下段立柱之間，所述基座上設有至少不為1的k個均勻布置于所述壓力分布測量臺的所述重量測量部件，用于獲取用戶的重量數據；

所述載物墊包括硅膠墊層和點陣壓阻式柔性力敏傳感器，所述硅膠墊層位于上層，所述硅膠墊層上面印刷有站立區指示框和標定組件基準線，所述站立區域提示框用于測量時提示用戶腳的站立位置，所述標定組件基準線用于自動標定狀態下校準與標定組件的定位；

所述點陣壓阻式柔性力敏傳感器位于底層，緊貼于所述不透明機殼上；所述點陣壓阻式柔性力敏傳感器用于獲取用戶的總足底壓力和足底壓力中心數據。

進一步地，所述標定組件為的材質為鋁合金，結構為異型材，截面為凸型截面，所述截面包括第一豎靶、第二豎靶及第三豎靶，所述第一豎靶的標定靶面左右兩側各設有至少不為1的n個特征標記，所述第二豎靶的標定靶面左右兩側各設有至少不為2的n個特征標記，所述第三豎靶的標定靶面左右兩側各設有至少不為2的n個特征標記，所述特征標記均為深色圓環，圓心為淺色。

本發明還提供了一種多維度足部特征分析系統，包括上述足部測量裝置、連接器和終端設備；所述連接器作為中間設備連接所述足部測量裝置和終端設備，用于接收所述終端設備的數據采集控制指令并控制所述足部測量裝置的各個組部件按照數據采集控制指令獲取原始數據，以及接收所述足部測量裝置獲取的原始數據并上傳給所述終端設備，以實現所述足部測量裝置與終端設備之間的數據交互；所述終端設備包括數據處理模塊和顯示模塊，所述處理模塊及顯示模塊用于基于獲取的原始數據，進行數據融合、三維重建、特征提取、報表顯示，以實現多維度足部特征的測量和可視化輸出。