[發(fā)明專利]對象物的清洗方法以及清洗機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110192166.8 | 申請日: | 2021-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN113369214B | 公開(公告)日: | 2022-02-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 川森巧曜 | 申請(專利權)人: | 杉野機械股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 劉春成;劉春燕 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對象 清洗 方法 以及 | ||
本發(fā)明提供一種能夠省略不需要清洗的清洗位置的清洗的清洗方法。一種附著有除去對象物(33i)的清洗對象物(17)的清洗方法,包括:確定附著有除去對象物(33i)的清洗對象物(17)的清洗位置(33m1、33m2),將真值代入確定的清洗位置(33m1、33m2)的清洗變量(33hc),主噴嘴(15)生成清洗液噴流(47),在清洗變量(33hc)的值為假的情況下,跳過與清洗位置(33m)對應的第一清洗部(33f3),在清洗變量(33hc)的值為真的情況下,執(zhí)行第一清洗部(33f3)而控制為主噴嘴(15)朝向清洗位置(33m)。
技術領域
本發(fā)明涉及一種清洗方法以及清洗機。
背景技術
提出了一種包含清洗室、配置有多個噴嘴的轉塔裝置以及驅動轉塔裝置的移動裝置的清洗機的方案(例如日本專利特許第6147623號公報,以下為專利文獻1)。在使用專利文獻1的清洗裝置進行清洗的情況下,從噴嘴噴射清洗液,使噴流依次沖擊對象物的全部的清洗位置。
存在包含異物的清洗位置較少的情況。另外,如果使噴流撞擊全部的清洗位置,則清洗時間變長。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種能夠省略不需要清洗的清洗位置的清洗的清洗方法以及清洗機。
本發(fā)明的第一方面是附著有除去對象物的清洗對象物的清洗方法,其包括:
確定附著有上述除去對象物的上述清洗對象物的清洗位置,
將真值代入確定的上述清洗位置的清洗變量,
主噴嘴生成清洗液噴流,
在上述清洗變量的值為假的情況下,跳過與上述清洗位置對應的第一清洗部,
在上述清洗變量的值為真的情況下,執(zhí)行上述第一清洗部而控制為上述主噴嘴朝向上述清洗位置。
本發(fā)明的第二方面是一種清洗機,其對包括多個清洗位置且在一個以上的上述清洗位置附著有除去對象物的對象物進行清洗,具有:
主噴嘴;
移動裝置,上述移動裝置使上述主噴嘴相對于上述對象物相對地移動;
存儲裝置,上述存儲裝置存儲:
清洗變量,上述清洗變量與上述清洗位置對應,是真與假的二進制變量;和
數(shù)值控制程序,上述數(shù)值控制程序具有第一清洗部,在與上述第一清洗部對應的上述清洗變量為假時,跳轉到下一個(下面的、下個)第二清洗部,在除此以外的情況下,執(zhí)行上述第一清洗部;以及
運算裝置,上述運算裝置具有:
變量設定部,上述變量設定部將與附著有上述除去對象物的清洗對應位置對應的上述清洗變量的值設為真,將除此以外的上述清洗變量的值設為假;和
數(shù)值控制部,上述數(shù)值控制部基于上述數(shù)值控制程序,使上述主噴嘴相對于上述對象物移動。
清洗包括清掃以及去飛邊。粒子束包括電磁波、中子束。電磁波例如為X射線、γ射線。除去對象物(以下,簡稱為“異物”。)例如是切屑、切削飛邊、纖維屑、研磨材料、切削油。分支語句是附條件的控制語句。
對象物是機械加工后或組裝之前的機械部件。對象物例如為氣缸蓋、氣缸體、曲軸、驅動橋殼體、驅動橋外殼、閥體、泵體、ABS體。對象物包括水孔、油孔、內螺紋、通孔、銷孔、油路、曲軸室、凸輪室、凸臺等結構。將這些結構中的使清洗液的噴流沖擊而被清洗的部位稱為清洗位置。
異物的結構是異物的位置以及形狀。異物的結構可以包括異物的物質。
清洗裝置也可以包括清洗機和掃描儀。掃描儀例如是X射線CT掃描儀、γ射線CT掃描儀、中子束CT掃描儀。掃描儀由控制裝置進行控制。
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