[發明專利]一種建筑規劃設計選址方法及裝置

在審

• 申請號: 202110189363.4
• 申請日: 2021-02-19
• 公開（公告）號: CN112836382A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 陳晨杰
• 申請（專利權）人: 陳晨杰
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20;G06F30/13;G06T15/00
• 代理公司: 成都魚爪智云知識產權代理有限公司 51308
• 代理人: 梁悅敏

本發明提出了一種建筑規劃設計選址方法及裝置，涉及建筑規劃設計技術領域。該建筑規劃設計選址方法包括以下步驟：建立視線分析范圍內所有遮擋物的體塊模型；在體塊模型中設置光照和多個分析點位，得到光照底圖；根據光照底圖得到分析點位的可視范圍像素值；根據分析點位的可視范圍像素值確定可視范圍最大的分析點位。本方法通過將視線光照可逆的原理運用到分析選址的問題上，在體塊模型中利用光照成像進行可視范圍計算，從而確定分析點位的可視范圍，提高了可視范圍分析的準確性，從而能夠有效解決地標建筑在前期規劃設計比較中，可視范圍分析的量化對比問題。使得在選址時具有數據依據，分析結果更加客觀，也為后續規劃設計提供了數據支持。

技術領域

本發明涉及建筑規劃設計選址技術領域，具體而言，涉及一種建筑規劃設計選址方法及裝置。

背景技術

在建筑設計選址時，特別是地標建筑選址過程中，需要分析待建建筑的公共空間可視范圍面積，選擇一個公共空間可視范圍面積最大的選址點以便使該建筑能夠讓更多處于公共空間的人看到。

目前現有是通過圖面畫直線的方式的分析方法，在該方法的分析過程中，不能進行可視范圍量化處理，無具體數據比較，從而使得到的分析結果不夠全面，主觀影響較大，不夠客觀。

發明內容

本發明的目的在于提供一種建筑規劃設計選址方法及裝置，用以改善現有技術中分析過程中無數據依據，主觀影響較大的問題。

第一方面，本申請實施例提供一種建筑規劃設計選址方法，包括以下步驟：

建立視線分析范圍內所有遮擋物的體塊模型；

在體塊模型中設置光照和多個分析點位，得到光照底圖；

根據光照底圖得到分析點位可視范圍的像素值；

根據分析點位可視范圍的像素值確定可視范圍最大的分析點位。

上述實現過程中，通過將視線范圍內的遮擋物建立體塊模型，在體塊模型中設置光照和分析點位，從而模擬出實際光照范圍，并得到光照底圖，通過光照底圖可以得到分析點位可視范圍的像素值，分析點位可視范圍的像素值就能體現光照的可視范圍，得到的像素值是數字，這樣就可以將可視范圍進行量化比較，從而可以確定可視范圍最大的分析點位。本方法通過將視線光照可逆的原理運用到分析選址的問題上，在體塊模型中利用光照成像進行可視范圍計算，從而確定分析點位的可視范圍，提高了可視范圍分析的準確性，從而能夠有效解決地標建筑在前期規劃設計比較中，可視范圍分析的量化對比問題。使得在選址時具有數據依據，分析結果更加客觀，也為后續規劃設計提供了數據支持。

其中，根據分析點位可視范圍的像素值確定可視范圍最大的分析點位的步驟包括以下步驟：

將像素值最大的分析點位作為可視范圍最大的分析點位。

其中，根據分析點位可視范圍的像素值確定可視范圍最大的分析點位的步驟包括以下步驟：

獲取光照所照射范圍內的總像素值；

根據分析點位的可視范圍像素值、光照所照射范圍內的總像素值和視線分析范圍的實際面積，按照公式計算出分析點位的可視范圍面積；

根據分析點位的可視范圍面積，得到可視范圍最大的分析點位。

其中，公式為：

其中，S_{可視范圍面積}為分析點位的可視范圍面積，S_{分析范圍總面積}為視線分析范圍的實際面積，S_{光照區像素值}為光照底圖中分析點位可視范圍的像素值，S_{分析范圍總像素值}為光照底圖中光照所照射范圍內的總像素值。