[發明專利]一種自動清潔設備

在審

• 申請號: 202110186819.1
• 申請日: 2021-02-10
• 公開（公告）號: CN113693496A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 成盼;胡榮新;谷二東
• 申請（專利權）人: 北京石頭世紀科技股份有限公司
• 主分類號: A47L11/24
• 分類號: A47L11/24;A47L11/284;A47L11/40
• 代理公司: 北京睿馳通程知識產權代理事務所(普通合伙) 11604
• 代理人: 張文平;唐華

1.一種自動清潔設備，其特征在于，包括，

移動平臺(100)，被配置為在操作面上自動移動；

清潔模組(150)，設置于所述移動平臺(100)上，包括：

干式清潔模組(151)，被配置為采用干式清潔方式清潔所述操作面的至少一部分；

濕式清潔模組(400)，被配置為采用濕式清潔方式清潔所述操作面的至少一部分；其中，所述濕式清潔模組(400)包括：

用于清潔所述操作面的清潔頭(410)，

用于驅動所述清潔頭(410)沿著目標面往復運動的驅動單元(420)，所述目標面為所述操作面的一部分，以及，

用于將清潔液體浸潤所述清潔頭(410)的出水裝置(42214)，所述出水裝置位于所述清潔頭(410)的投影位置上方。

2.根據權利要求1所述的自動清潔設備，其特征在于，所述驅動單元(420)包括：

驅動平臺(421)，連接于所述移動平臺(100)底面，用于提供驅動力；

支撐平臺(422)，可拆卸的連接于所述驅動平臺(421)，用于支撐所述清潔頭(410)。

3.根據權利要求2所述的自動清潔設備，其特征在于，所述支撐平臺(422)包括：清潔基板(4221)，可自由活動的設置于所述支撐平臺(422)，所述清潔基板(4221)包括所述出水裝置(42214)。

4.根據權利要求3所述的自動清潔設備，其特征在于，所述出水裝置(42214)位于所述清潔基板(4221)的邊緣。

5.根據權利要求1所述的自動清潔設備，其特征在于，所述清潔頭(410)包括活動區域(412)和固定區域(411)，所述活動區域(412)能夠相對于所述固定區域(411)大致往復運動。

6.根據權利要求5所述的自動清潔設備，其特征在于，所述出水裝置位于所述活動區域(412)的投影位置上方，以使得所述清潔液體直接浸潤所述活動區域(412)。

7.根據權利要求5所述的自動清潔設備，其特征在于，所述出水裝置位于所述固定區域(411)的投影位置上方，以使得所述清潔液體直接浸潤所述固定區域(411)。

8.根據權利要求6或7所述的自動清潔設備，其特征在于，所述活動區域(412)和所述固定區域(411)通過柔性連接部(413)相連接。

9.根據權利要求8所述的自動清潔設備，其特征在于，所述柔性連接部(413)形成位于所述活動區域(412)和所述固定區域(411)之間的凹槽。

10.根據權利要求9所述的自動清潔設備，其特征在于，所述出水裝置位于所述固定區域(411)的投影位置上方，以使得所述清潔液體直接流入所述柔性連接部(413)，并經所述凹槽浸潤所述活動區域(412)和/或所述固定區域(411)。