[發(fā)明專利]一種離子推力器放電室鍍膜蓄留結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110186419.0
• 申請日: 2021-02-09
• 公開（公告）號: CN112795879B
• 公開（公告）日: 2022-07-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孟偉;趙以德;耿海;李娟;高俊;唐福俊;江豪成;吳辰宸;代鵬;李建鵬;顏能文
• 申請（專利權(quán)）人: 蘭州空間技術(shù)物理研究所
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;F03H1/00;B33Y80/00;C23C14/02;C23C14/14
• 代理公司: 北京之于行知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11767
• 代理人: 呂曉蓉

1.一種離子推力器放電室鍍膜蓄留結(jié)構(gòu)，其特征在于，對放電室表面進(jìn)行紋理化處理，形成紋理化蓄留層，所述紋理化蓄留層設(shè)置在放電室陽極筒本體的內(nèi)表面以及放電室屏柵筒本體的內(nèi)表面；所述紋理化蓄留層為正六邊形紋理結(jié)構(gòu)，正六邊形塊位置為凸起結(jié)構(gòu)，其余位置為凹槽結(jié)構(gòu)；所述正六邊形外接圓的直徑為Φ0.3mm～0.5mm，所述凸起結(jié)構(gòu)的高度為0.2-0.4mm；所述正六邊形的間距為0.3-0.5mm。

2.如權(quán)利要求1所述的離子推力器放電室鍍膜蓄留結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述紋理化蓄留層、所述陽極筒本體以及所述屏柵筒本體的材料相同，均為TC4材料。

3.如權(quán)利要求2所述的離子推力器放電室鍍膜蓄留結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述紋理化蓄留層采用3D打印工藝，分別與所述陽極筒本體的內(nèi)表面以及所述屏柵筒本體的內(nèi)表面一體成型。