[發明專利]深度測量方法、芯片和電子設備有效
| 申請號: | 202110184297.1 | 申請日: | 2021-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN112954230B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發明(設計)人: | 李明采 | 申請(專利權)人: | 深圳市匯頂科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/235 | 分類號: | H04N5/235;G01S17/08 |
| 代理公司: | 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成麗杰 |
| 地址: | 518045 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 深度 測量方法 芯片 電子設備 | ||
1.一種深度測量方法,其特征在于,包括:
根據預設的與N個相位分別對應的N個曝光時長,獲取目標場景的N個子幀圖像;其中,所述N為大于或等于2的自然數,所述N個相位是與發射光相位的相位差各不相同的N個相位;
根據所述N個子幀圖像,確定所述目標場景的深度信息;
其中,所述N個相位包括基準相位和擴展相位,所述N個曝光時長包括與基準相位對應的基準曝光時長和與所述擴展相位對應的擴展曝光時長;所述基準曝光時長小于或等于在所述基準相位及預設的基準距離下圖像不過曝的最大時長,所述擴展曝光時長介于所述基準曝光時長和在所述擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長之間,所述擴展曝光時長與所述基準曝光時長不同;
所述預設的基準距離為所述深度測量方法的最小檢測距離。
2.根據權利要求1所述的深度測量方法,其特征在于,所述擴展相位包括第一類擴展相位和/或第二類擴展相位;
所述第一類擴展相位與所述基準相位之間的相位差大于0且小于或等于π/2,所述第一類擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長的確定方式為:
在相同曝光時長內,分別獲取所述基準相位下的子幀圖像的光子數和所述第一類擴展相位下的子幀圖像的光子數;
計算所述基準相位下的子幀圖像的光子數與所述第一類擴展相位下的子幀圖像的光子數的第一比值,并將所述第一比值與所述基準相位及預設的基準距離下圖像不過曝的最大時長的乘積,作為所述第一類擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長;
所述第二類擴展相位與所述基準相位之間的相位差大于π/2且小于或等于π,所述第二類擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長的確定方式為:
基于深度測量中光信號的調制頻率、所述第二類擴展相位以及所述基準距離,計算所述第二類擴展相位下的子幀圖像的光子數達到極限值的最遠測量距離;
計算所述最遠測量距離與所述基準距離的第二比值的平方,并將所述第二比值的平方與所述基準相位及預設的基準距離下圖像不過曝的最大時長的乘積,作為所述第二類擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長。
3.根據權利要求2所述的深度測量方法,其特征在于,所述擴展相位包括兩個所述第一類擴展相位和一個所述第二類擴展相位,且兩個所述第一類擴展之間的相位差為π。
4.根據權利要求3所述的深度測量方法,其特征在于,兩個所述第一類擴展相位分別為90°、270°,一個所述第二類擴展相位為180°。
5.根據權利要求1至4任一項所述的深度測量方法,其特征在于,所述基準相位為0°。
6.根據權利要求1至4任一項所述的深度測量方法,其特征在于,所述基準曝光時長等于在所述基準相位及預設的基準距離下圖像不過曝的最大時長。
7.根據權利要求1所述的深度測量方法,其特征在于,所述在所述擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長的確定方式為:
在相同曝光時長內,分別獲取所述基準相位下的子幀圖像的光子數和所述擴展相位下的子幀圖像的光子數;
計算所述基準相位下的子幀圖像的光子數與所述擴展相位下的子幀圖像的光子數的第一比值;
基于深度測量中光信號的調制頻率、所述擴展相位以及所述基準距離,計算所述擴展相位下的子幀圖像的光子數達到極限值的最遠測量距離;
計算所述最遠測量距離與所述基準距離的第二比值的平方;
在所述第一比值和所述第二比值的平方中選擇最小的數值,并將所述最小的數值與所述基準相位及預設的基準距離下圖像不過曝的最大時長的乘積,作為所述擴展相位及所述基準距離下圖像不過曝的最大時長。
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