[發明專利]一種顏料、制備方法、包含該顏料的熱控涂層及制備方法

有效

• 申請號: 202110183807.3
• 申請日: 2021-02-08
• 公開（公告）號: CN112961534B
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發明（設計）人: 王萌;雷輝;姜舟;賀晨;羅正平;李俊峰;孫理理
• 申請（專利權）人: 航天材料及工藝研究所
• 主分類號: C09D7/61
• 分類號: C09D7/61;C09D1/00;C09D5/33
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 范曉毅

1.一種顏料，其特征在于，所述顏料為MgZnO/SiO₂核殼納米結構復合粉體；所述MgZnO/SiO₂核殼納米結構復合粉體以MgZnO為核，以SiO₂為殼；所述MgZnO/SiO₂核殼納米結構復合粉體顆粒整體直徑為50~70nm，核的直徑為10~20nm；

利用所述顏料制備的熱控涂層在200-2600nm全波段反射率＞75.3%；

所述熱控涂層包含如下質量份數的組分：

所述顏料 1.5-2份；

無機硅酸鹽 1份。

2.根據權利要求1所述的一種顏料，其特征在于，所述顏料的比表面積為20～26m²/g；所述顏料的白度為92～95%。

3.根據權利要求1或2所述的一種顏料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）將硫酸鎂與硫酸鋅的混合溶液熱注入硅酸鈉溶液中，進行反應；

（2）將步驟（1）中的混合溶液中的反應產物與溶液分離，清洗，烘干；

（3）將步驟（2）所得產物燒結，得到MgZnO/SiO₂核殼納米結構復合粉體。

4.根據權利要求3所述的一種顏料的制備方法，其特征在于，步驟（1）中，硫酸鎂與硫酸鋅的混合溶液的濃度為0.25～0.5mol/L，硫酸鎂與硫酸鋅的摩爾比為1~1.2:9；硅酸鈉溶液濃度為1.0~1.5mol/L。

5.根據權利要求3所述的一種顏料的制備方法，其特征在于，步驟（1）中，熱注入的速度為1~5mL/s；步驟（1）中，反應時間為10~20min。

6.根據權利要求3所述的一種顏料的制備方法，其特征在于，步驟（2）中，反應產物與溶液分離的方法為陳化后進行離心；所述陳化時間≥24h；所述離心的轉速為8000~12000rpm，離心時間≥6min；步驟（2）中，清洗的方法為用去離子水清洗≥3次；烘干的溫度≥80℃，時間≥ 24h。

7.根據權利要求3所述的一種顏料的制備方法，其特征在于，步驟（3）中，燒結溫度為400～500℃。

8.一種熱控涂層，其特征在于，包含如下質量份數的組分：

權利要求1或2所述的一種顏料 1.5-2份；

無機硅酸鹽 1份。

9.根據權利要求8所述的一種熱控涂層，其特征在于，所述無機硅酸鹽為硅酸鉀或硅酸鈉中的一種或一種以上組合；所述無機硅酸鹽的模數為3.5～4.5，固含量為25%～35%。

10.根據權利要求8或9所述的一種熱控涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）將權利要求1或2所述的一種顏料分散于無機硅酸鹽的水溶液中，得到熱控涂料；

（2）將步驟（1）所得熱控涂料噴涂于已預處理的基材上，得到太陽全光譜反射熱控涂層。

11.根據權利要求10所述的一種熱控涂層的制備方法，其特征在于，步驟（1）中，采用球磨的方法將顏料分散于無機硅酸鹽的水溶液中，球磨的時間為2～4小時；所述無機硅酸鹽水溶液的質量濃度為30%～35%；所述熱控涂料的細度≤60μm。

12.根據權利要求10所述的一種熱控涂層的制備方法，其特征在于，步驟（2）中，基材預處理方法包括打磨和吹砂；噴涂的方法為多次噴涂，相鄰兩次噴涂間隔≥30min；所述太陽全光譜反射熱控涂層總厚度為120～180μm。