[發(fā)明專利]信息處理設(shè)備、指定方法和非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110183697.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113435599A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 川野浩康 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士通株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G06N7/00 | 分類號(hào): | G06N7/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 唐京橋;何方 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 信息處理 設(shè)備 指定 方法 非暫態(tài) 計(jì)算機(jī) 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
公開(kāi)了信息處理設(shè)備、指定方法和非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。一種方法,包括:通過(guò)使用專用求解器基于第一參數(shù)求解優(yōu)化問(wèn)題來(lái)計(jì)算參考解和參考值,參考解由目標(biāo)函數(shù)中的多個(gè)位指定,參考值是與參考解相關(guān)聯(lián)的目標(biāo)函數(shù)的能量值;通過(guò)基于多個(gè)第二參數(shù)求解優(yōu)化問(wèn)題來(lái)計(jì)算退火解和退火值,退火解由多個(gè)位指定,退火值是與退火解相關(guān)聯(lián)的目標(biāo)函數(shù)的能量值;以及通過(guò)使用參考解的第一位狀態(tài)與退火解的第二位狀態(tài)之間的漢明距離以及退火值與參考值之間的差來(lái)指定要用于求解優(yōu)化問(wèn)題的參數(shù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)施方式涉及信息處理設(shè)備等。
背景技術(shù)
在求解組合優(yōu)化問(wèn)題的情況下,通常使用專用求解器,例如OR-Tools、CPLEX和Gurobi。在使用專用求解器的情況下,雖然可以獲得最優(yōu)解,但是其通常花費(fèi)長(zhǎng)時(shí)間來(lái)計(jì)算最優(yōu)解。
同時(shí),可以通過(guò)使用退火機(jī)代替專用求解器來(lái)在保持最優(yōu)解的精度的同時(shí)在較短的時(shí)間內(nèi)執(zhí)行計(jì)算。在使用退火機(jī)的情況下,通過(guò)優(yōu)化將退火機(jī)的多個(gè)參數(shù)調(diào)節(jié)成接近通過(guò)專用求解器達(dá)到的目標(biāo)函數(shù)的值(在下文中稱為能量值),從而求解優(yōu)化問(wèn)題。
在執(zhí)行優(yōu)化計(jì)算時(shí),使用由0或1表示的二進(jìn)制變量(位)。因此,最優(yōu)解包括能量值和指示解的組成的位狀態(tài)。例如,在與乘積產(chǎn)生有關(guān)的優(yōu)化問(wèn)題的情況下,可以根據(jù)通過(guò)專用求解器或退火機(jī)獲得的最優(yōu)解的位狀態(tài)來(lái)確定要產(chǎn)生的乘積的類型、數(shù)目等的組合。
在下面的描述中,通過(guò)專用求解器獲得的優(yōu)化問(wèn)題的最優(yōu)解將被稱為“參考解”。通過(guò)退火機(jī)獲得的優(yōu)化問(wèn)題的最優(yōu)解將被稱為“退火解”。
發(fā)明內(nèi)容
[技術(shù)問(wèn)題]
然而,根據(jù)上述常規(guī)技術(shù),即使當(dāng)通過(guò)專用求解器獲得的最優(yōu)解的能量值和通過(guò)退火機(jī)獲得的最優(yōu)解的能量值相同時(shí),參考解的位狀態(tài)也可以與退火解的位狀態(tài)不同。
例如,基于通過(guò)已使用的專用求解器獲得的參考解來(lái)優(yōu)化乘積的產(chǎn)生地點(diǎn)的機(jī)制、布置、設(shè)備和操作系統(tǒng)。因此,即使當(dāng)最優(yōu)解的能量值與專用求解器的能量值相同時(shí),乘積的產(chǎn)生地點(diǎn)的機(jī)制、布置、設(shè)備和操作系統(tǒng)也需要隨著與參考解的位狀態(tài)不同的退火解的位狀態(tài)而變化,這難以處理。例如,由于產(chǎn)生地點(diǎn)的各種變化,這可能導(dǎo)致多余成本和增加工時(shí)。
在一個(gè)方面,提供了一種使得在使用退火機(jī)求解優(yōu)化問(wèn)題的情況下的退火解的位狀態(tài)接近于在使用專用求解器求解優(yōu)化問(wèn)題的情況下的參考解的位狀態(tài)的解決方案。
[問(wèn)題的解決方案]
根據(jù)實(shí)施方式的方面,由計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的指定方法包括:通過(guò)使用專用求解器基于第一參數(shù)求解優(yōu)化問(wèn)題來(lái)計(jì)算參考解和參考值,參考解由優(yōu)化問(wèn)題的目標(biāo)函數(shù)中包括的多個(gè)位指定,參考值是與參考解相對(duì)應(yīng)的目標(biāo)函數(shù)的能量值;通過(guò)使用退火機(jī)基于多個(gè)第二參數(shù)求解優(yōu)化問(wèn)題來(lái)計(jì)算退火解和退火值,退火解由多個(gè)位指定,退火值是與退火解相對(duì)應(yīng)的目標(biāo)函數(shù)的能量值;以及在多個(gè)第二參數(shù)中指定要在使用退火機(jī)求解優(yōu)化問(wèn)題的情況下使用的參數(shù),參數(shù)的指定通過(guò)使用參考解中的多個(gè)位的第一位狀態(tài)與退火解中的多個(gè)位的第二位狀態(tài)之間的漢明距離以及退火值與參考值之間的差來(lái)執(zhí)行。
[發(fā)明的有益效果]
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,可以使得在使用退火機(jī)求解優(yōu)化問(wèn)題的情況下的退火解的位狀態(tài)接近于在使用專用求解器求解優(yōu)化問(wèn)題的情況下的參考解的位狀態(tài)。
附圖說(shuō)明
圖1是用于說(shuō)明參考技術(shù)的圖表(1);
圖2是用于說(shuō)明參考技術(shù)的圖表(2);
圖3是用于說(shuō)明參考技術(shù)的圖表(3);
圖4是用于說(shuō)明初次篩選的圖表;
圖5是用于說(shuō)明二次篩選的圖表;
圖6是用于說(shuō)明由信息處理設(shè)備選擇的種子的有效性的表;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士通株式會(huì)社,未經(jīng)富士通株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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