[發明專利]錫槽的放散裝置

有效

• 申請號: 202110181955.1
• 申請日: 2021-02-09
• 公開（公告）號: CN112851088B
• 公開（公告）日: 2023-01-06
• 發明（設計）人: 李青;李赫然;陳英;葛懷敏;郭志勝;張克儉;蒲興龍;王海周;李剛
• 申請（專利權）人: 河南旭陽光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: C03B18/18
• 分類號: C03B18/18;C03B18/20
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 崔瑩瑩

本公開涉及一種錫槽的放散裝置，錫槽包括用于容納錫液的錫槽本體和形成在錫槽本體側向的邊封，邊封沿錫槽的高溫區至低溫區方向上依次開設有多個安裝孔，放散裝置包括：放散管，放散管的數量與安裝孔的數量相同，每個放散管分別能夠插入到一個安裝孔中，以與錫槽本體連通；以及第一調節閥，每個放散管上分別設置有一個第一調節閥，以對相應的放散管的氣流流量進行調節。通過該放散裝置能夠有效改善錫槽內錫液污染，防止污染物造成玻璃基板表面的品質缺陷，提升玻璃基板品質。同時，能夠使錫槽內純凈的保護氣體與污染的保護氣體形成動態循環，并使錫槽內的壓力、溫度以及氣流更加穩定，以保證玻璃基板成型過程的穩定。

技術領域

本公開涉及玻璃基板制造領域，具體地，涉及一種錫槽的放散裝置。

背景技術

在用浮法工藝生產玻璃基板的過程中，錫槽作為重要熱工設備實現了玻璃基板的成型，錫槽中的高溫錫液易與O₂和S發生化學反應，生成的SnO₂、SnO、Sn、SnS等氧化物、硫化物會對錫和錫槽空間造成污染。

相關技術中，為了有效改善錫槽內的污染現象，在錫槽上設置了放散裝置，但是現有的放散裝置不能夠穩定、量化地調整錫槽內各個區域的氣體放散量，使得錫槽內的溫度、氣流穩定造成波動，直接影響玻璃基板成型工藝制度的穩定。

發明內容

本公開的目的是提供一種錫槽的放散裝置，以至少部分地解決相關技術中存在的問題。

為了實現上述目的，本公開提供一種錫槽的放散裝置，所述錫槽包括用于容納錫液的錫槽本體和形成在所述錫槽本體側向的邊封，所述邊封沿所述錫槽的高溫區至低溫區方向上依次開設有多個安裝孔，所述放散裝置包括：

放散管，所述放散管的數量與所述安裝孔的數量相同，每個所述放散管分別能夠插入到一個所述安裝孔中，以與所述錫槽本體連通；以及

第一調節閥，每個所述放散管上分別設置有一個所述第一調節閥，以對相應的放散管的氣流流量進行調節。

可選地，所述放散管構造為第一L型結構，所述第一L型結構的第一段水平連接于所述安裝孔，所述第一L型結構的第二段豎直向上延伸。

可選地，所述放散裝置還包括沿多個所述放散管的排布方向延伸的集氣管，多個所述放散管分別與所述集氣管連通。

可選地，所述放散裝置還包括與所述集氣管的輸出端連通的冷卻裝置。

可選地，所述放散裝置還包括與所述集氣管的輸出端連通的凈化裝置。

可選地，所述放散裝置還包括氣體探測裝置，所述氣體探測裝置安裝在所述凈化裝置的輸出端，用于檢測凈化后的氣體。

可選地，所述放散裝置還包括與所述集氣管的輸出端連通的引風機，和連接在所述引風機的輸出端的排氣管道，以將氣體抽出所述排氣管道。

可選地，所述排氣管道構造為第二L型結構，所述第二L型結構的一段豎直連通于所述引風機，另一段水平連通至外界。

可選地，所述放散裝置包括并聯設置的至少兩套所述冷卻裝置，每套所述冷卻裝置分別連接有一個第二調節閥，以用于開關相應的所述冷卻裝置。

可選地，所述放散裝置包括并聯設置的至少兩套所述凈化裝置，每套所述凈化裝置分別連接有一個第三調節閥，以用于開關相應的所述凈化裝置。

通過上述技術方案，在錫槽本體的高溫區至低溫區開設多個安裝孔，并連通設置有放散管，以使得錫槽內高溫區至低溫區的氣體均能夠及時排出，有效改善錫槽內錫液污染，防止污染物造成玻璃基板表面的品質缺陷，提升玻璃基板品質。同時在每根放散管上均設置有第一調節閥，以分別對每根放散管進行氣體排放量的調節，使純凈的保護氣體與污染的保護氣體形成動態循環，并使錫槽內的壓力、溫度以及氣流更加穩定，以保證玻璃基板成型過程的穩定。