[發(fā)明專利]一種射流強(qiáng)化拋光一體化裝置及工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110181629.0
• 申請(qǐng)日: 2021-02-09
• 公開（公告）號(hào): CN112975581B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張顯程;張平;李志強(qiáng);韓曉寧;涂善東;劉怡心
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華東理工大學(xué);中國(guó)航空制造技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): B24B1/00
• 分類號(hào): B24B1/00;B24B57/02;C21D7/06
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪;熊俊杰

1.一種射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，用于對(duì)待加工件進(jìn)行表面強(qiáng)化，其特征在于，包括：

存儲(chǔ)器，其內(nèi)存儲(chǔ)有水和磁流體；

一級(jí)入口，與所述存儲(chǔ)器連通；

射流腔體，具有射流腔，所述射流腔與所述一級(jí)入口連通，所述射流腔體的內(nèi)壁上設(shè)有至少一個(gè)凹坑；

至少一個(gè)噴嘴，固定在所述射流腔體上，具有相互連通的入射口和出射口，所述入射口與所述射流腔體連通，所述出射口對(duì)準(zhǔn)待加工件，所述噴嘴的入射口和出射口之間依次設(shè)有相連通的諧振腔、一級(jí)喉管、自激振蕩腔和二級(jí)喉管；

拋光裝置，包括永磁小車和蓋板，所述永磁小車位于所述待加工件的下方，所述蓋板可分離地放置在所述待加工件的上表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，其特征在于，所述一級(jí)喉管與所述二級(jí)喉管的長(zhǎng)度比值為3:1。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，其特征在于，所述噴嘴的出射口為半球形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，其特征在于，所述噴嘴有多個(gè)，且沿所述射流腔體長(zhǎng)度方向均勻設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，其特征在于，所述噴嘴與所述射流腔體轉(zhuǎn)動(dòng)連接。

6.一種射流強(qiáng)化拋光一體化工藝，其特征在于，包括：

步驟S1：提供一種如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的射流強(qiáng)化拋光一體化裝置，將待加工件固定好，并至于噴嘴的出射口下方；

步驟S2：通過高壓泵對(duì)存儲(chǔ)器內(nèi)的水增壓后依次經(jīng)過一級(jí)入口、射流腔體和噴嘴，由噴嘴的出射口射向待加工件，完成對(duì)待加工件表面的射流強(qiáng)化；

步驟S3：將存儲(chǔ)器內(nèi)的磁流體通過高壓泵加壓后依次經(jīng)過一級(jí)入口、射流腔體和噴嘴，由噴嘴的出射口射向已完成強(qiáng)化的待加工件表面；

步驟S4：將蓋板覆蓋在磁流體上方，永磁小車沿預(yù)設(shè)進(jìn)給方向運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)待加工件表面的拋光。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的射流強(qiáng)化拋光一體化工藝，其特征在于，所述步驟S2中，水射流的壓力為50-420MPa。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的射流強(qiáng)化拋光一體化工藝，其特征在于，所述步驟S3中，磁流體射流的壓力為1-7.5MPa。