[發明專利]增強內部流場的基板容器

在審

• 申請號: 202110178628.0
• 申請日: 2021-02-09
• 公開（公告）號: CN114249029A
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 邱銘乾;沈恩年;潘詠晉;林志銘;劉維虔;鐘承恩;李柏廷;江俊諺
• 申請（專利權）人: 家登精密工業股份有限公司
• 主分類號: B65D85/30
• 分類號: B65D85/30;B65D25/02;H01L21/677
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 劉云貴

1.一種增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述增強內部流場的基板容器包括：

盒體，具有前蓋、反向于所述前蓋的背板、連接所述前蓋及所述背板的底板及頂板，所述前蓋、所述背板、所述底板及所述頂板夾合形成內部容置空間；

至少一個偏位充氣機構，設置于所述內部容置空間之外，所述偏位充氣機構具有平行所述底板的氣室，所述氣室的一端具有反向于所述盒體的進氣口，所述氣室的另一端具有穿透所述底板的至少一個出氣口，所述至少一個出氣口臨近所述背板；以及

至少一個氣體擴散機構，鄰接于所述背板，所述氣體擴散機構包括底座、隔離墻及至少一個擴散構件，所述底座罩覆于所述至少一個出氣口而形成副氣室，所述隔離墻垂直所述底板延伸而形成垂直的第一氣體通道，所述第一氣體通道連通所述副氣室，所述至少一個擴散構件設置于所述隔離墻的至少一側，所述擴散構件與所述隔離墻夾合形成第二氣體通道，所述隔離墻具有至少一個孔隙以連通所述第一氣體通道及所述第二氣體通道。

2.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述第二氣體通道與所述副氣室不直接連通。

3.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述擴散構件朝向所述前蓋的表面設有多個貫通孔，以使來自所述第一氣體通道的氣體通過所述貫通孔流向所述前蓋。

4.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述隔離墻及所述擴散構件為一體成形。

5.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述隔離墻的所述孔隙為所述隔離墻及所述背板之間的間隙。

6.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，還包括中央支撐機構，所述偏位充氣機構及所述氣體擴散機構各為兩組，所述中央支撐機構設置于所述兩組氣體擴散機構之間。

7.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述隔離墻及所述背板為一體成形。

8.根據權利要求7所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述隔離墻的所述孔隙為所述隔離墻及所述擴散構件之間的間隙。

9.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，還包括氣密構件，設置于所述隔離墻與所述盒體之間。

10.根據權利要求1所述的增強內部流場的基板容器，其特征在于，所述背板、所述隔離墻及所述擴散構件為一體成形，所述孔隙為貫穿所述隔離墻的孔洞。