[發(fā)明專利]一種盲孔玻璃顯示屏減薄工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110176901.6 | 申請日： | 2021-02-07 |
| 公開（公告）號： | CN112979173A | 公開（公告）日： | 2021-06-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 石潔 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津盛諾電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C03C15/00 | 分類號： | C03C15/00;B24B29/02 |
| 代理公司： | 天津市鼎拓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12233 | 代理人： | 李冬梅 |
| 地址： | 301700 天津*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 玻璃 顯示屏 工藝 | ||
本申請?zhí)峁┮环N盲孔玻璃顯示屏減薄工藝，顯示屏上設(shè)有盲孔區(qū)域，包括以下步驟：準(zhǔn)備插欄：根據(jù)產(chǎn)品尺寸，選取對應(yīng)的蝕刻欄具，根據(jù)產(chǎn)品的盲孔區(qū)域位置，對蝕刻欄具對應(yīng)卡位上的各個卡欄進行調(diào)整，使得卡欄位置避開產(chǎn)品盲孔區(qū)域；原片插欄：將產(chǎn)品由清洗機清洗后取出，將產(chǎn)品豎向插入蝕刻欄具內(nèi)，每個卡位插入一片產(chǎn)品；下槽蝕刻：將蝕刻欄具放入蝕刻槽內(nèi)進行蝕刻，直到產(chǎn)品厚度達(dá)到目標(biāo)厚度；成品出槽：將蝕刻好的產(chǎn)品由蝕刻槽內(nèi)取出，進行成品清洗。本申請的有益效果是：對顯示屏產(chǎn)品進行欄具插片前，根據(jù)產(chǎn)品尺寸及盲孔區(qū)域位置調(diào)整欄具卡位，使得產(chǎn)品插入欄具后盲孔區(qū)域與卡位錯開，避免蝕刻減薄時卡位位置對盲孔區(qū)域的平整度產(chǎn)生影響。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及玻璃顯示屏減薄工藝領(lǐng)域，具體涉及一種盲孔玻璃顯示屏減薄工藝。
背景技術(shù)
隨著手機屏全面屏的發(fā)展，通過提高攝像頭與屏幕之間的貼合度，從而提高鏡頭透過率，保證拍照的質(zhì)量。將攝像頭隱蔽在屏幕的下方，屏幕無需破孔，俗稱“盲孔”。玻璃“盲孔”位置平整度影響了手機攝像效果，在顯示屏減薄加工過程中會影響“盲孔”位置的平整度(也稱“盲孔”PV值)，因此提高“盲孔”位置的平整度成為盲孔玻璃顯示屏工藝研究的關(guān)鍵點。
發(fā)明內(nèi)容
本申請的目的是針對以上問題，提供一種盲孔玻璃顯示屏減薄工藝。
第一方面，本申請?zhí)峁┮环N盲孔玻璃顯示屏減薄工藝，所述顯示屏上設(shè)有盲孔區(qū)域，包括以下步驟：
準(zhǔn)備插欄：根據(jù)產(chǎn)品尺寸，選取對應(yīng)的蝕刻欄具，根據(jù)產(chǎn)品的盲孔區(qū)域位置，對蝕刻欄具對應(yīng)卡位上的各個卡欄進行調(diào)整，使得卡欄位置避開產(chǎn)品盲孔區(qū)域；
原片插欄：將產(chǎn)品由清洗機清洗后取出，將產(chǎn)品豎向插入蝕刻欄具內(nèi)，每個卡位插入一片產(chǎn)品；
下槽蝕刻：將蝕刻欄具放入蝕刻槽內(nèi)進行蝕刻，直到產(chǎn)品厚度達(dá)到目標(biāo)厚度；
成品出槽：將蝕刻好的產(chǎn)品由蝕刻槽內(nèi)取出，進行成品清洗。
根據(jù)本申請實施例提供的技術(shù)方案，所述成品出槽后還包括拋光研磨作業(yè)。
根據(jù)本申請實施例提供的技術(shù)方案，所述拋光研磨作業(yè)，包括以下步驟：
拋光上片：將顯示屏移至拋光機臺，使顯示屏與真空皮貼合；
清潔下盤：轉(zhuǎn)動下盤，用水沖刷拋光皮同時使用毛刷清潔拋光皮，放下上盤；
拋光研磨：設(shè)置拋光時間及壓力的工藝參數(shù)，啟動拋光機；
拋光卸片：托盤貼設(shè)在顯示屏中間位置，通過水槍對顯示屏上邊緣中間貼合處噴射，使顯示屏脫離真空皮的吸附。
根據(jù)本申請實施例提供的技術(shù)方案，所述拋光時間及壓力的工藝參數(shù)，具體包括：設(shè)置拋光時間為25min，拋光壓力為40g。
本發(fā)明的有益效果：本申請?zhí)峁┮环N盲孔玻璃顯示屏減薄工藝，相較于現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)勢：
在插欄時，顯示屏與欄具的接觸位置避開盲孔區(qū)域，避免顯示屏與欄具的卡位位置在蝕刻減薄過程中對盲孔區(qū)域位置產(chǎn)生厚度不均的問題。
調(diào)整拋光研磨工藝參數(shù)，在拋光時間和壓力上做改進，使得拋光后盲孔區(qū)域平整度達(dá)到要求。
附圖說明
圖1為本申請第一種實施例的流程圖；
圖2為第一種實施例中優(yōu)選實施例的流程圖。
具體實施方式
為了使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對本申請進行詳細(xì)描述，本部分的描述僅是示范性和解釋性，不應(yīng)對本申請的保護范圍有任何的限制作用。
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