[發明專利]蒸發鍍膜設備及基材的鍍膜方法

在審

• 申請號: 202110168139.7
• 申請日: 2021-02-07
• 公開（公告）號: CN112725760A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 郭敏;張萬財
• 申請（專利權）人: 廈門海辰新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 周宇

本申請提供一種蒸發鍍膜設備及基材的鍍膜方法，屬于蒸發鍍膜技術領域。蒸發鍍膜設備包括沿基材的輸送路徑依次設置的用于對基材的同一表面進行鍍膜的至少兩組鍍膜組件。每組鍍膜組件包括主冷輥和蒸鍍裝置，蒸鍍裝置被配置成對基材進行鍍膜，主冷輥被配置成對基材進行冷卻。該蒸發鍍膜設備能夠減少超薄基材(厚度小于8μm的基材)在鍍膜的過程中的穿孔的可能性，可以使鍍膜效果更好。

技術領域

本申請涉及蒸發鍍膜技術領域，具體而言，涉及一種蒸發鍍膜設備及基材的鍍膜方法。

背景技術

在基材上蒸鍍或磁控濺射形成導電層，從而得到導電膜?，F有技術中，對于厚度較薄的導電膜，經常出現基材穿孔、褶皺、變形等缺陷。

發明內容

本申請的目的在于提供一種蒸發鍍膜設備及基材的鍍膜方法，能夠改善鍍膜的過程中超薄基材出現熱損傷的問題。

第一方面，本申請提供一種蒸發鍍膜設備，蒸發鍍膜設備包括沿基材的輸送路徑依次設置的至少兩組鍍膜組件。每組鍍膜組件包括主冷輥和蒸鍍裝置，蒸鍍裝置被配置成對基材進行鍍膜，主冷輥被配置成對基材進行冷卻。

發明人研究發現，為了使基材上的鍍層達到目標值，則需要基材上具有足夠的蒸發量，蒸發量較大，則基材的受熱程度較大，如果基材是超薄基材(厚度小于8μm的基材)，則大量的熱量容易對基材造成熱損傷。本申請中，設置至少兩組鍍膜組件，在蒸發量相同的情況下，經過每一組鍍膜組件的蒸發量會減少，則基膜的受熱程度減小，且每蒸鍍一次，就對基材進行冷卻；經過下一組鍍膜組件再次對基材的同一表面繼續進行鍍膜時，熱量不會累積，可以對超薄基材進行二次鍍膜，從而使超薄基材上的鍍層達到需求，且可以減少甚至避免對超薄基材造成熱損傷，使鍍膜效果更好。

在一種可能的實施方式中，每組鍍膜組件的蒸鍍裝置設置于主冷輥的下方，蒸鍍裝置被配置成對包覆主冷輥的基材進行鍍膜。

采用貼輥式方式對超薄基材進行鍍膜，一方面，可以使基材的鍍膜效果更高；另一方面，可以使基材的冷卻效果更好，可以對超薄基材進行鍍膜的同時，進一步減少超薄基材穿孔的可能性。在一種可能的實施方式中，主冷輥的輥面上設置有陶瓷涂層，且主冷輥被配置成接受偏壓電源。可以使超薄基材與主冷輥之間進行吸附貼合，使基材得到充分冷卻，降低蒸發熱量對基材的影響。

可選地，主冷輥的直徑為200～2400mm。對于厚度小于8μm的超薄基材來說，主冷輥的直徑在上述范圍之內，可以基材與主冷輥的貼輥效果更好。

在一種可能的實施方式中，主冷輥內部設置用于通入冷卻液的冷卻通道，主冷輥的輥軸用于連接負電極，冷卻通道的內壁用于連接正電極。

通電后，可以在陶瓷涂層表面形成負電極，對基材形成靜電吸附作用，從而使基材與主冷輥之間的貼輥效果更好，使基材得到充分冷卻，避免基材在鍍膜的過程中造成熱損傷。

在一種可能的實施方式中，鍍膜組件還包括碳纖維輥，碳纖維輥設置于主冷輥的后端，且用于改變基材的輸送方向。

在鍍膜的過程中，基材與主冷輥貼輥式輸送，為了改變基材的輸送方向，在主冷輥的后端設置碳纖維輥，以便將基材輸送至下一組鍍膜組件進行鍍膜。由于碳纖維輥要改變基材的輸送方向，所以，碳纖維輥會與基材上的鍍層接觸，碳纖維輥的表面為碳纖維，硬度小，粗糙度小，能夠避免對鍍層造成損傷，以便基材的順利輸送。

可選地，碳纖維輥的直徑為40～250mm。對于厚度小于8μm的超薄基材來說，碳纖維輥的直徑在上述范圍之內，可以在改變輸送方向的同時，減少鍍層與碳纖維輥的接觸面積。

在一種可能的實施方式中，每組鍍膜組件的蒸鍍裝置設置于主冷輥的前端，蒸鍍裝置被配置成對基材進行鍍膜，主冷輥被配置成冷卻鍍膜后的基材。

本申請中，還可以使用懸浮式方式對超薄基材進行鍍膜，也能夠在一定程度上避免對超薄基材造成熱損傷，使鍍膜效果更好。