[發明專利]光源折射陶瓷支架及加工工藝

在審

• 申請號: 202110167550.2
• 申請日: 2021-02-07
• 公開（公告）號: CN113050228A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 辛紹文;文瑾
• 申請（專利權）人: 新化縣新天地精細陶瓷有限公司
• 主分類號: G02B6/38
• 分類號: G02B6/38;C04B35/10;C04B35/622;C04B35/628
• 代理公司: 長沙朕揚知識產權代理事務所(普通合伙) 43213
• 代理人: 郭蓓霏

1.一種光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述光源折射陶瓷支架包括陶瓷支架(1)、折射棱鏡膜片(2)，所述陶瓷支架(1)為方形體結構，所述陶瓷支架(1)內開設有沿其長度方向延伸的折線通道(3)；所述折線通道(3)的起點處、終點處以及拐角處均與相應的陶瓷支架(1)側壁相通，且在側壁上形成多個圓形通口(5)；所述折線通道(3)起點處對應的圓形通口(5)為進光口(51)，其它圓形通口為出光口(52)；所述出光口(52)處均設置有折射棱鏡膜片(2)。

2.根據權利要求1所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述陶瓷支架(1)的兩側側壁上均設置有N個出光口(52)，所述N為正整數，3≤N≤7；位于所述陶瓷支架(1)同一側的圓形通口(5)等間距設置；每一所述圓形通口(5)與其相對的另一側的圓形通口(5)在陶瓷支架(1)寬度方向上具有重疊區域。

3.根據權利要求1所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述折線通道(3)中的每一段直線通道均與其兩端對應的圓形通口(5)具有同一軸線，所述折線通道(3)的夾角為25-30°。

4.根據權利要求1所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述圓形通口(5)的直徑為1.1-1.7mm；所述陶瓷支架(1)的寬度為4-6.5mm。

5.根據權利要求1所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述陶瓷支架(1)包括上下對稱設置的上支架(11)和下支架(12)，所述上支架(11)和下支架(12)均為方形體結構；

所述上支架(11)和下支架(12)相對的一面開設有相對稱的折線槽(4)，所述折線槽(4)的起點處、終點處以及拐角處均與相應的上支架(11)和下支架(12)側壁相通，且在側壁上形成半圓形缺口，上下兩條所述折線槽(4)拼合為折線通道(3)，上下相對的兩個所述半圓形缺口拼合成圓形通口(5)。

6.根據權利要求5所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述下支架(12)上端面開設有限位孔(6)，所述限位孔(6)所對應的上支架(11)下端面固定有與限位孔(6)相匹配的限位柱(7)，所述限位柱(7)位于限位孔(6)內并與限位孔(6)接觸連接。

7.根據權利要求1所述的光源折射陶瓷支架，其特征在于，所述陶瓷支架(1)同一側的多個所述折射棱鏡膜片(2)由一個膜片保護槽(8)共同固定，所述折射棱鏡膜片(2)對應的膜片保護槽(8)上開設有安裝孔，所述折射棱鏡膜片(2)固定在安裝孔內，所述膜片保護槽(8)與陶瓷支架(1)側壁固定連接。

8.一種如權利要求1-7中任一項所述的光源折射陶瓷支架的加工工藝，其特征在于，包括以下步驟：

1)毛坯制作：制備氧化鋁陶瓷材料；所述氧化鋁陶瓷材料的原料中含有異質核-殼結構增韌劑；

所述異質核-殼結構增韌劑由以下方法制備得到：

①將稀土金屬硝酸鹽與去離子水、無水乙醇配制成質量濃度為20-30％的稀土陽離子混合液；所述去離子水、無水乙醇的質量比為1：1-1.5；

所述稀土金屬硝酸鹽為硝酸釔、硝酸鈰、硝酸鑭的混合物；所述硝酸釔、硝酸鈰、硝酸鑭的摩爾比為1：0.2-0.3：0.5-0.8；

②將平均粒徑為30-80nm的納米氧化鋁粉末倒入稀土陽離子混合液中，納米氧化鋁粉末與稀土陽離子混合液的質量比為1：0.3-0.5；充分混合后球磨，然后，將獲得的懸浮液在真空烘箱中干燥，以除去水和乙醇；

③將干燥后所獲得的粉體研磨細化，過200目篩，在780-810℃的馬弗爐中煅燒1-1.5h，得到異質核-殼結構增韌劑；

2)精密研磨加工。