[發明專利]一種電信號直接讀出的光學傳感裝置及其制備方法在審
| 申請號: | 202110166204.2 | 申請日: | 2021-02-04 |
| 公開(公告)號: | CN112816443A | 公開(公告)日: | 2021-05-18 |
| 發明(設計)人: | 吳紹龍;于逸凡;李劉晶;盧文祥;秦琳玲;張程;李孝峰 | 申請(專利權)人: | 蘇州大學 |
| 主分類號: | G01N21/552 | 分類號: | G01N21/552;G01N21/01 |
| 代理公司: | 蘇州智品專利代理事務所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
| 地址: | 215137 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電信號 直接 讀出 光學 傳感 裝置 及其 制備 方法 | ||
1.一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于包括:激發光源、傳感芯片、流通池、對電極;傳感芯片設置于流通池中,其中傳感芯片包括:金屬基底層,以及依次設置于金屬基底層上的半導體薄膜層、周期性金屬納米結構陣列層;流通池用于盛放待測物,流通池上設置有待測物輸入管道、待測物排出管道、透明窗口;所述金屬基底層上設置傳感芯片引線端;所述對電極設置于透明窗口與傳感芯片之間,且對電極上設置有對電極引線端;傳感芯片引線端和對電極引線端之間接入數字源表或電流表;激發光源發出的光入射至透明窗口。
2.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:周期性金屬納米結構陣列層與半導體薄膜層形成肖特基接觸,對應的勢壘高度小于等離子體共振波長對應光子能量。
3.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:周期性金屬納米結構陣列層的周期為300~2000nm、寬度為周期的20%~90%。
4.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:周期性金屬納米結構陣列層材質為金、銀、鈀、過渡金屬氮化物的一種。
5.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:半導體薄膜層為n型半導體,材質為氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鎂、氟化鋰中的一種。
6.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:半導體薄膜層為p型半導體,材質為氧化鎳、氧化鉬、氧化釩中的一種。
7.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于:金屬基底層包括:拋光的金屬基片,沉積的金屬薄膜。
8.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于,金屬基底層的材質的選擇依據為:金屬基底層與半導體薄膜層形成的接觸勢壘最小。
9.根據權利要求1所述的一種電信號直接讀出的光學傳感裝置,其特征在于,對電極為鉑絲電極。
10.一種電信號直接讀出的光學傳感裝置的制備方法,其特征在于:
1)在金屬基底層上沉積半導體薄膜層;
2)在半導體薄膜層通過光刻工藝得到周期性納米結構圖案化的光刻膠;
3)在圖案化光刻膠上沉積金屬薄膜,通過剝離工藝得到光刻膠圖案的反結構,即周期性金屬納米結構陣列層;
4)在金屬基底層上焊接傳感芯片引線端,得到由周期性金屬納米結構陣列層、半導體薄膜層和金屬基底層組成的傳感芯片;
5)制作流通池,并在其正面中央設置一個透明窗口,使得窗口面積大于所采用激發光源光斑面積;
6)將傳感芯片置入流通池,并使得周期性金屬納米結構陣列層處于透明窗口的正下方;
7)在流通池內部、傳感芯片的上方放置一個對電極,并在對電極上設置對電極引線端;
8)在流通池透明窗口的邊緣,設置兩個對立的圓孔,分別焊接上細管,用作待測物質輸入管道與待測物排出管道;
9)在傳感芯片引線端和對電極引線端之間接入數字源表或電流表;
10)設置激發光源,將光斑耦合或直接照射至流通池的透明窗口。
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