[發明專利]一種波導結構的參數優化方法有效
| 申請號： | 202110161344.0 | 申請日： | 2021-02-05 |
| 公開（公告）號： | CN112987289B | 公開（公告）日： | 2022-09-20 |
| 發明（設計）人： | 楊妍;孫富君;唐波;張鵬;謝玲;李志華 | 申請（專利權）人： | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京辰權知識產權代理有限公司 11619 | 代理人： | 谷波 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 波導 結構 參數 優化 方法 | ||
1.一種波導結構的參數優化方法，其特征在于，包括：
獲取目標光刻工藝的特征尺寸，所述目標光刻工藝用于制作所述波導結構，所述波導結構包括寬度漸變結構；
根據預設優化算法對所述波導結構的寬度漸變結構進行參數優化，得到優化結果；所述優化結果包括預設數量的優化點，每個優化點對應所述寬度漸變結構的初始寬度至終止寬度中的一個寬度；所述預設數量大于等于第一預設閾值且小于等于第二預設閾值；
根據所述特征尺寸調整所述預設數量，繼續根據預設優化算法對所述寬度漸變結構進行參數優化，直至滿足預設條件后結束參數優化；
所述預設條件包括：優化結果中相鄰優化點之間寬度差值大于等于所述特征尺寸，且優化點的數量大于等于第三預設閾值；
所述根據所述特征尺寸調整所述預設數量，包括：
統計優化結果中相鄰優化點之間寬度差值小于所述特征尺寸的第一數量；
當前預設數量減去所述第一數量得到第二數量，將所述第二數量作為下一輪優化中優化點的預設數量。
2.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，所述方法還包括：
根據所述寬度漸變結構的長度和所述特征尺寸確定所述第二預設閾值。
3.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，所述根據所述寬度漸變結構的長度和所述特征尺寸確定所述第二預設閾值，包括：
將所述寬度漸變結構的長度與所述特征尺寸的比值，取整后作為所述第二預設閾值。
4.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，所述預設優化算法包括粒子群算法。
5.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，所述寬度漸變結構上相鄰優化點之間的距離相等。
6.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，每個優化點對應一個寬度范圍。
7.根據權利要求1所述的波導結構的參數優化方法，其特征在于，所述波導結構為光交叉波導結構、模斑轉換器、Y分束器或多模干涉器MMI。
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