[發(fā)明專利]一種高真空維持的液氦杜瓦在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110158505.0 | 申請(qǐng)日： | 2021-02-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112815226A | 公開（公告）日： | 2021-05-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 杜希陽;艾青;梁志煒;馮萇春 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 氫合科技（廣州）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | F17C1/12 | 分類號(hào)： | F17C1/12;F17C13/00 |
| 代理公司： | 廣東廣盈專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44339 | 代理人： | 李俊 |
| 地址： | 511300 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 維持 液氦杜瓦 | ||
1.一種高真空維持的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦杜瓦包括真空外腔體、液氦腔體和液氦徑管；
所述液氦腔體設(shè)置在所述真空外腔體的內(nèi)部，所述液氦腔體與所述真空外腔體之間為真空夾層；
所述液氦徑管的一端與所述液氦腔體的內(nèi)部連通，所述液氦徑管的另一端與所述真空外腔體的外部連通；
所述真空外腔體的外表面上設(shè)置有真空電接頭和抽真空口，所述真空電接頭延伸至所述真空夾層，所述抽真空口與所述真空夾層連通；
所述真空外腔體的內(nèi)表面上至少設(shè)置有一個(gè)吸氣裝置，所述吸氣裝置與所述真空電接頭電性連接；
所述液氦腔體的外表面上至少設(shè)置有一個(gè)吸附裝置，所述吸附裝置中內(nèi)置有吸附介質(zhì)，且所述吸附裝置附帶有加熱裝置，所述加熱裝置與所述真空電接頭電性連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述吸氣裝置為非蒸發(fā)型吸氣器，所述非蒸發(fā)型吸氣器內(nèi)置有非蒸散型吸氣劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述吸附裝置為活性炭吸附器，所述吸附介質(zhì)為粘接或放置在所述活性炭吸附器內(nèi)部的活性炭。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空外腔體的外表面上設(shè)置有抽真空法蘭，所述抽真空口設(shè)置在所述抽真空法蘭中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦杜瓦還包括密封法蘭，所述密封法蘭與所述抽真空法蘭相連接并密封所述抽真空口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述密封法蘭與所述抽真空法蘭之間設(shè)置有O形密封圈。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空夾層中設(shè)置有包圍所述液氦腔體的多塊冷屏。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述多塊冷屏包括在所述液氦腔體與所述真空外腔體之間依次設(shè)置的第一冷屏、第二冷屏和第三冷屏，其中：
所述第一冷屏為30K冷屏；
所述第二冷屏為77K冷屏，且所述77K冷屏上設(shè)置有多層絕熱；
所述第三冷屏為200K冷屏，且所述200K冷屏上設(shè)置有多層絕熱。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空外腔體為300K真空外腔體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦腔體為4K液氦腔體。
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