[發(fā)明專利]測定土壤特定位置污染物對(duì)植物根系影響的裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110150145.X | 申請日: | 2021-02-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112945955A | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 段仁燕;黃敏毅;馬銀花 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南人文科技學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/84 | 分類號(hào): | G01N21/84 |
| 代理公司: | 合肥市浩智運(yùn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34124 | 代理人: | 杜丹丹 |
| 地址: | 417000*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測定 土壤 特定 位置 污染物 植物 根系 影響 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了測定土壤特定位置污染物對(duì)植物根系影響的裝置及方法,包括根系生長區(qū)、根系掃描區(qū)及植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū);所述根系生長區(qū)的一側(cè)邊連接橫置且透明的根系掃描區(qū);所述植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū)的出口插入在根系掃描區(qū)內(nèi);所述植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū)的進(jìn)口在根系掃描區(qū)外部;本發(fā)明,不論是加入單一污染物還是復(fù)合污染物,或是一次或多次,間隔或持續(xù)加入,均可以在根系掃描區(qū)外部進(jìn)行,無需將根系拔出,不僅減少對(duì)植株根系損壞,而且操作簡化了很多,提高研究的便捷性以及效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及植物根系研究技術(shù)領(lǐng)域,具體為測定土壤特定位置污染物對(duì)植物根系影響的裝置及方法。
背景技術(shù)
植物根系分為主根和側(cè)根,主根和側(cè)根的不同部位具有不同的吸收能力。污染物可在根系主根和側(cè)根附近不同位置產(chǎn)生污染,即可為單一位置污染源,也可為多個(gè)位置污染源。這些不同位置的污染物會(huì)對(duì)植物的根系動(dòng)態(tài)產(chǎn)生有明顯差異的影響。常用的研究污染物對(duì)植物根系生長影響的方法,多采用在根系生長的土壤表面加入污染物。而加入的污染物由于重力的作用,自然會(huì)流入土壤底部。污染物不能在根系的特定部位長期停留,不能測定植物根部附近土壤特定位置污染物對(duì)植物根系的影響。
在許璐璐,王涵,高盼盼等人編撰的《安徽農(nóng)業(yè)科學(xué)》中,提及環(huán)境脅迫對(duì)植物根系形態(tài)的影響,并介紹了環(huán)境污染中的具體元素對(duì)植物根系的生長影響。對(duì)于植物受到污染物后長勢的研究,分為枝葉、根系。由于根系埋在土壤內(nèi),現(xiàn)有的方法,需要在植物生長幾天后,在植物根系生長的土壤中施加污染源。由于加入的污染物的重力作用,污染物會(huì)自動(dòng)從土壤頂部流入土壤底部,污染物不能在根系附近土壤的特定部位長期停留,不能測定土壤中特定位置污染物對(duì)植物根系的影響;測定相應(yīng)指標(biāo)時(shí),需要將植物拔出,觀察根系,操作繁雜,尤其是對(duì)施加污染源的操作,難以做到測定土壤特定位置污染物對(duì)植物根系的影響。
公告號(hào)為CN102180730B的對(duì)比文件,公開了一種殺線蟲微生物有機(jī)肥的制備方法,在其背景技術(shù)中介紹到由于過多施用化學(xué)肥料而導(dǎo)致土壤退化腐殖質(zhì)惡化的問題,逐漸引起人們的重視。經(jīng)研究,長期過多地施用化學(xué)肥料,會(huì)導(dǎo)致土壤板結(jié)和退化,有機(jī)質(zhì)含量低下以及腐殖質(zhì)惡化等問題,但是對(duì)于這些植物受到侵害的數(shù)據(jù)未提到具體的研究檢測方法,更未能提供一種有效地檢測裝置來對(duì)植物根系受到環(huán)境污染時(shí)的生長情況作出研究測試。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于:提供一種操作簡單便于研究的測定土壤特定位置污染物對(duì)植物根系影響的裝置及方法。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:包括植物種植區(qū)、根系生長區(qū)、根系掃描區(qū)及植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū);所述根系生長區(qū)的一側(cè)邊連接橫置且透明的根系掃描區(qū);所述植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū)的出口插入在根系掃描區(qū)內(nèi)植物根系附近土壤的特定部位;所述植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū)的進(jìn)口在根系掃描區(qū)外部;所述植物種植區(qū)架設(shè)在根系生長區(qū)的頂部;所述植物根系附近土壤特定部位包括植物根系主根的頂部附近土壤、中部附近土壤和底部附近土壤,各個(gè)側(cè)根的中部附近土壤和底部附近土壤。
通過將根系生長區(qū)和根系掃描區(qū)分開,且根系掃描區(qū)橫置,有效解決了加入的污染物由于重力的作用,自然會(huì)流入土壤底部,污染物不能在根系的特定部位長期停留的問題;也方便植物根系沿根系掃描區(qū)底壁生長,然后通過植物根系附近土壤特定部位污染脅迫區(qū)的進(jìn)口向根系掃描區(qū)根系附近土壤特定部位施加污染物。不論是加入單一污染物還是復(fù)合污染物,或是一次或多次,間隔或持續(xù)加入,均可以在根系掃描區(qū)外部進(jìn)行,無需將根系拔出。不僅減少對(duì)植株根系損壞,而且操作簡化了很多,提高研究的便捷性以及效率。
優(yōu)選地,所述植物種植區(qū)包括種植箱、注水口及光源;所述種植箱呈上口大下口小的漏斗狀箱體;所述種植箱的頂壁上固定有光照朝向種植箱內(nèi)部的光源;所述種植箱的側(cè)壁上開設(shè)有注水口;所述注水口內(nèi)嵌入噴水嘴;噴水嘴通過進(jìn)水管連接至水源。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于湖南人文科技學(xué)院,未經(jīng)湖南人文科技學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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