[發明專利]功率半導體結構及斷路器轉移支路組件有效
| 申請號: | 202110149779.3 | 申請日: | 2021-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN112968007B | 公開(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發明(設計)人: | 毛婳;蔣華平;冉立;楊大偉;蔡巍;楊敏祥;黃曉樂;陳綱亮;彭兆偉;秦逸帆;徐黨國;黃詩洋;寧琳如;龍凱華;馬鑫晟;盧毅 | 申請(專利權)人: | 重慶大學;國網冀北電力有限公司電力科學研究院;國網冀北電力有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/367 | 分類號: | H01L23/367;H01L23/373;H01L23/427 |
| 代理公司: | 北京科領智誠知識產權代理事務所(普通合伙) 11782 | 代理人: | 陳士騫 |
| 地址: | 400044 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 功率 半導體 結構 斷路器 轉移 支路 組件 | ||
1.一種功率半導體結構,其特征在于,包括:
第一金屬組件層;
半導體芯片組件,所述半導體芯片組件包含半導體芯片和芯片門極線;所述半導體芯片設于所述第一金屬組件層上;所述芯片門極線的第一端連接所述半導體芯片;
第一冷卻件,所述第一冷卻件設于所述半導體芯片上;
第二金屬組件層,所述第二金屬組件層包括設于所述第一冷卻件上的第一金屬層,以及設于所述第一金屬層上的第二金屬層;其中,所述第一金屬層設有容納腔;
第二冷卻件,所述第二冷卻件設于所述容納腔內;
其中,所述芯片門極線的第二端依次絕緣穿過第一冷卻件和第一金屬層,并從第二金屬層的一側面絕緣穿出;
所述第一金屬層設有缺口,所述缺口與所述容納腔連通;所述缺口用于注入所述第二冷卻件;
所述容納腔內設有若干個間隔設置的隔板,各所述隔板分別覆蓋有第三冷卻件;各所述隔板上分別設有第一通孔,所述第一通孔與所述缺口連通,且用于流通所述第二冷卻件。
2.根據權利要求1所述的功率半導體結構,其特征在于,所述第一金屬層還設有第二通孔,所述第二通孔用于穿過所述芯片門極線的第二端;
所述第二通孔的表面設有絕緣外包層。
3.根據權利要求1所述的功率半導體結構,其特征在于,所述第一金屬組件層包括第三金屬層,以及設于所述第三金屬層上的第四金屬層;
所述第四金屬層上設有所述第一冷卻件。
4.根據權利要求3所述的功率半導體結構,其特征在于,所述第三金屬層和所述第二金屬層均為銅金屬層;
所述第四金屬層和所述第一金屬層均為鉬金屬層;
所述半導體芯片為硅基IGCT芯片。
5.根據權利要求1所述的功率半導體結構,其特征在于,所述第一冷卻件為石墨烯結構;所述第二冷卻件為相變材料結構;所述第三冷卻件為石墨烯結構。
6.根據權利要求5所述的功率半導體結構,其特征在于,所述第一冷卻件為單層石墨烯結構或多層石墨烯結構。
7.根據權利要求5所述的功率半導體結構,其特征在于,所述相變材料結構為固體相變材料結構、液體相變材料結構、固液相變材料結構或固固相變材料結構。
8.一種斷路器轉移支路組件,其特征在于,包括權利要求1至7任意一項所述的功率半導體結構。
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