[發(fā)明專利]一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110146850.2 | 申請日: | 2021-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN112746275A | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范潔;才樹旺;尹子旭;龐其偉;張奎志;孫超 | 申請(專利權(quán))人: | 中國華電科工集團(tuán)有限公司;青島贏海防腐防污技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23F13/04 | 分類號: | C23F13/04;C23F13/06 |
| 代理公司: | 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務(wù)所(普通合伙) 11362 | 代理人: | 劉雪嬌 |
| 地址: | 100160 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電廠 進(jìn)水 腐蝕 控制系統(tǒng) | ||
1.一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,包括電源控制裝置(1)、第一防腐系統(tǒng)(2)、第二防腐系統(tǒng)(3)和電纜線(9),所述電源控制裝置(1)通過電纜線(9)與第一防腐系統(tǒng)(2)和第二防腐系統(tǒng)(3)電連接,所述第一防腐系統(tǒng)(2)包括五個(gè)輔助陽極裝置(4)、第一參比電極裝置(7)和第二參比電極裝置(8),第一參比電極裝置(7)設(shè)置于進(jìn)水間的閘門的外側(cè),所述第二參比電極裝置(8)設(shè)置于進(jìn)水間的閘門與欄污柵之間;所述第一防腐系統(tǒng)(2)用以對進(jìn)水間內(nèi)的鋼閘門及鋼閘門的導(dǎo)槽(6)、預(yù)埋件(11)、攔污柵及攔污柵的導(dǎo)槽(12)進(jìn)行防腐保護(hù);所述第二防腐系統(tǒng)(3)用以對進(jìn)水間內(nèi)的旋轉(zhuǎn)濾網(wǎng)及其導(dǎo)槽(13)、爬梯及其預(yù)埋件(14)進(jìn)行防腐保護(hù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述第二防腐系統(tǒng)(3)也包括五個(gè)輔助陽極裝置(4),所述第二防腐系統(tǒng)(3)還包括第三參比電極裝置(10)和第四參比電極裝置(11),所述第三參比電極裝置(10)設(shè)置于進(jìn)水間的閘門的外側(cè),所述第三參比電極裝置(11)設(shè)置于進(jìn)水間的閘門的內(nèi)側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述輔助陽極裝置(4)包括預(yù)埋板件(401)、T型支架(402)、固定夾具(403)、絕緣套管(404)和輔助陽極件(405),所述輔助陽極件(405)設(shè)置于所述絕緣套管(404)中,所述絕緣套管(404)通過固定夾具(403)安裝在T型支架(402)上,所述T型支架(402)固定在預(yù)埋板件(401)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述輔助陽極件(405)為圓棒狀金屬氧化陽極。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述輔助陽極件(405)包括基體和涂覆在基體表面的防腐涂層,所述基體為鈦。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述輔助陽極件(405)的消耗率為6mg/A·a,最大電流密度為1250A/m2。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種電廠進(jìn)水間防腐蝕控制系統(tǒng),其特征在于,所述參比電極裝置(5)也包括預(yù)埋板件(401)、T型支架(402)、固定夾具(403)和絕緣套管(404),所述絕緣套管(404)通過固定夾具(403)安裝在T型支架(402)上,所述T型支架(402)固定在預(yù)埋板件(401)上;此外,所述參比電極裝置(5)還包括參比陽極件(501),所述參比陽極件(501)設(shè)置在絕緣套管(404)中。
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