[發明專利]一種節水型超純水生產制備系統在審
| 申請號: | 202110145472.6 | 申請日: | 2021-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN112777810A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發明(設計)人: | 邱文富;鄒敏莊;邱添 | 申請(專利權)人: | 廣州市豐華凈化設備有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;C02F103/02 |
| 代理公司: | 廣州凱東知識產權代理有限公司 44259 | 代理人: | 吳發登 |
| 地址: | 510000 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 節水 超純水 生產 制備 系統 | ||
本發明公開了一種節水型超純水生產制備系統,包括處理桶和攪拌結構、定量加藥結構、鎖緊結構和過濾結構;攪拌結構包括封蓋和電機,封蓋設置于處理桶頂端封蓋和處理桶頂端插接在一起;電機通過螺栓安裝在封蓋上表面中部,且電機的輸出端穿過封蓋并插入處理桶內部,本發明解決現有的超存水制備系統中沒有設置濃水回收處理的設備,在超純水生產的過程中多是將濃水直接當做廢水進行排放,直接排放濃水導致大量的水資源浪費的問題,通過對濃水處理設備的結構進行改良和優化,使得濃水處理設備能夠配合超純水制備系統進行使用,便于對超存水制備系統產生的濃水進行處理再利用。
技術領域
本發明涉及超純水制備技術領域,具體為一種節水型超純水生產制備系統。
背景技術
超純水又稱UP水,常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等,超純水制備系統,制備超純水主要包括以下三個階段:即初步吸附過濾階段、反滲透凈化階段和樹脂離子交換階段,超純水制備過程中,對原水進行反滲透后處理后會產生大量的濃水,而現有的超純水制備系統存在以下問題:現有的超存水制備系統中沒有設置濃水回收處理的設備,在超純水生產的過程中多是將濃水直接當做廢水進行排放,而實際濃水的水質相對于原水要高的多,濃水完全可以再利用,直接排放濃水導致大量的水資源浪費。
發明內容
本發明的目的在于提供一種節水型超純水生產制備系統,旨在改善現有的超存水制備系統中沒有設置濃水回收處理的設備,在超純水生產的過程中多是將濃水直接當做廢水進行排放,而實際濃水的水質相對于原水要高的多,濃水完全可以再利用,直接排放濃水導致大量的水資源浪費的問題。
本發明是這樣實現的:
一種節水型超純水生產制備系統,包括處理桶,還包括:
攪拌結構,攪拌結構包括封蓋和電機,封蓋設置于處理桶頂端,封蓋和處理桶頂端插接在一起,電機通過螺栓安裝在封蓋上表面中部,電機的輸出端穿過封蓋并插入處理桶內部;
定量加藥結構,所述定量加藥結構包括調節閥和藥盒,所述調節閥底端和封蓋通過螺栓連接在一起,所述調節閥內通道與封蓋內側相通,所述藥盒設置于調節閥正上方,所述藥盒底端和調節閥頂端通過螺栓連接在一起;
鎖緊結構,所述鎖緊結構包括兩個壓頭,兩個所述壓頭沿處理桶兩側對稱設置,所述壓頭與處理桶轉動連接在一起,所述壓頭的輸出端抵在封蓋上表面。
過濾結構,所述過濾結構由過濾組件構成,所述過濾組件設置于處理桶內部,所述過濾組件底部和處理桶內部連接在一起。
進一步的,處理桶內部靠近底端的位置設有承托圈,處理桶底面邊緣均勻的設有若干支撐板,支撐板底端設有底圈,底圈底面均勻的設有若干固定孔,處理桶底面中部設有排水管,排水管一端從處理桶圓弧面探出,排水管探出處理桶的一端設有第一法蘭,處理桶圓弧面靠近頂端的位置設有進水口,進水口處設有第一法蘭。
進一步的,封蓋中部設有第二軸承,且封蓋靠近邊緣的圓弧面上設有導藥管,導藥管下部分傾斜設置,且導藥管上部分垂直于水平面設置,導藥管頂端設有第二法蘭。
進一步的,電機圓弧面貼合封蓋上表面的位置設有連接圈,連接圈靠近邊緣的位置均勻的設有若干連接孔,且電機輸出端設有攪拌桿,攪拌桿圓弧面設有攪拌葉,攪拌葉呈螺旋結構。
進一步的,藥盒底面設有連接管,連接管底面設有第二法蘭,藥盒頂端開口,且藥盒頂端開口處設有蓋板,蓋板上表面均勻的設有若干擰槽,且蓋板底部設有轉接頭,轉接頭圓弧面設有外螺紋,藥盒內側圓弧面頂端設有內螺紋。
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