[發明專利]一種高桿排水機構及足浴器

在審

• 申請號: 202110144907.5
• 申請日: 2021-02-02
• 公開（公告）號: CN112790638A
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 姚文靜;祝峰;陽夢喬;李遠;周楊
• 申請（專利權）人: 蓓慈電器有限公司
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022;A47K3/00
• 代理公司: 合肥興東知識產權代理有限公司 34148
• 代理人: 朱波

1.一種足浴器的高桿排水機構，其特征在于，包括設置于足浴器內的高桿機構以及排水通道(1)，所述高桿機構頂部設置開關(2)，通過開關(2)控制所述高桿機構底部往復運動用于打開及關閉排水通道(1)。

2.根據權利要求1所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，所述高桿機構包括按壓復位裝置以及高桿排水裝置，所述足浴器內一側上設有殼體水槽(3)，所述殼體水槽(3)頂部設有通孔(30)，內部設有高桿排水裝置；所述按壓復位裝置安裝于殼體水槽(3)頂部，所述高桿排水裝置頂部通過所述通孔(30)與按壓復位裝置底部相接觸，通過按壓開關(2)控制按壓復位裝置驅使高桿排水裝置往復運動來打開及關閉排水通道(1)。

3.根據權利要求2所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，所述按壓復位裝置包括第一支架(4)、第二支架(5)、復位彈簧(6)以及固定架(7)，所述第一支架(4)頂部過盈配合安裝開關(2)，所述固定架(7)通過螺栓固定安裝于所述殼體水槽(3)頂部，所述固定架(7)內設有通道，通道側壁上設有若干導向軌，所述第一支架(4)底部四周均勻設有若干斜齒(40)，相鄰斜齒(40)之間設有第一導向槽(41)，所述第二支架(5)四周均勻設有環形升降斜面(50)，相鄰環形升降斜面(50)之間設有第二導向槽(51)；所述第一支架(4)底部的斜齒(40)、第二支架(5)四周的環形升降斜面(50)均通過第一導向槽(41)、第二導向槽(51)以及相匹配的導向軌安裝于固定架(7)通道內，所述第二支架(5)底部通過復位彈簧(6)與高桿排水裝置頂部相抵接，當按壓開關(2)時，所述導向軌脫離第二導向槽(51)，第二支架(5)由于復位彈簧(6)造成橫向轉動力發生旋轉下移從而關閉或打開排水通道(1)，再次按壓開關(2)時，所述第二支架(5)由于橫向轉動力繼續發生旋轉，導向軌到達第二導向槽(51)，第二支架(5)發生上移從而相應的打開或關閉排水通道(1)。

4.根據權利要求3所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，還包括第一密封圈(8)，所述第一密封圈(8)套接于高桿排水裝置上端并位于復位彈簧(6)下方。

5.根據權利要求2所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，所述高桿排水裝置包括第一高桿(9)以及進水通道(10)，所述第一高桿(9)底部連接進水通道(10)，通過按壓開關(2)控制進水通道(10)與排水通道(1)之間形成導通以及關閉。

6.根據權利要求5所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，還包括第二密封圈(11)，所述第二密封圈(11)安裝于進水通道(10)與排水通道(1)之間用于密封。

7.根據權利要求2所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，所述高桿排水裝置包括第二高桿(12)以及密封球(13)，所述第二高桿(12)中間設有通道，通道內放置有可上下移動的密封球(13)，通道一側開設有高桿進水槽(120)；所述第二高桿(12)底部設有開口，所述排水通道(1)上設有圓柱筋；當按壓開關時，所述圓柱筋插入開口抵出密封球(13)呈打開狀態或者所述圓柱筋遠離開口，密封球(13)擋住開口呈關閉狀態；所述開口大于圓柱筋的直徑。

8.根據權利要求7所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，還包括第三密封圈(14)，所述第三密封圈(14)安裝于高桿進水槽(120)與排水通道(1)之間用于密封。

9.根據權利要求2所述的足浴器的高桿排水機構，其特征在于，所述殼體水槽(3)一側設有進水槽(31)，另一側通過后蓋(15)安裝，所述后蓋(15)通過AB膠密封并通過螺釘固定。

10.一種足浴器，其特征在于，包括如權利要求1至9任一項所述的足浴器的高桿排水機構。