[發明專利]一種帶有微槽道的平板電噴霧發射裝置

有效

• 申請號: 202110140473.1
• 申請日: 2021-02-02
• 公開（公告）號: CN112974007B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 王宏;于涵;朱恂;陳蓉;丁玉棟;程旻;吳君軍;廖強
• 申請（專利權）人: 重慶大學
• 主分類號: B05B5/053
• 分類號: B05B5/053
• 代理公司: 重慶市諾興專利代理事務所(普通合伙) 50239
• 代理人: 盧玲

1.一種帶有微槽道的平板電噴霧發射裝置，包括從上往下順序設置的儲液箱（1）、平板發射極（3）和抽取電極（5）；其特征在于：所述儲液箱（1）內設置有多孔介質材料（11）和電噴霧所需工質；所述多孔介質材料（11）用以平衡工質壓降，平衡分配到不同發射孔的工質流量大小；在所述儲液箱（1）的下端板的中心部位開設有出液孔（12），在所述儲液箱（1）上設置有進口連接管（13），在平板發射極（3）與出液孔相對應部位開設有若干發射孔（31），在抽取電極（5）上開設有若干微孔（51），所述發射孔（31）與微孔（51）一一對應；在平板發射極（3）的每個發射孔的外周均設置有圓環型槽道（32）；所述圓環型槽道（32）位于平板發射極（3）的下端面，以限制液滴的擴展；在所述平板發射極（3）和抽取電極（5）之間設置有定位柱（4），所述定位柱（4）用于對平板發射極（3）和抽取電極（5）進行定位，并控制平板發射極（3）與抽取電極（5）之間的間距；所述平板發射極（3）用于分配噴霧流量并控制電噴霧工質在發射孔（31）附近形成的泰勒錐形態；所述抽取電極（5）用于提高發射孔（31）附近的電場強度，并控制微孔（51）的噴霧羽流和沉積形態。

2.根據權利要求1所述的一種帶有微槽道的平板電噴霧發射裝置，其特征在于：所述微孔和發射孔均勻排列，相鄰微孔的圓心距小于距離平板發射極（3）與抽取電極（5）之間的間距。

3.根據權利要求1所述的一種帶有微槽道的平板電噴霧發射裝置，其特征在于：所述儲液箱（1）的多孔介質材料（11）的粒徑大于平板發射極（3）上的發射孔（31）的孔徑。

4.根據權利要求1所述的一種帶有微槽道的平板電噴霧發射裝置，其特征在于：所述抽取電極（5）由金屬材料制成，所述平板發射極（3）由絕緣材料制成。