[發明專利]一種減小土壤類型對多環芳烴熒光強度影響的校正方法有效
| 申請號： | 202110133132.1 | 申請日： | 2021-02-01 |
| 公開（公告）號： | CN113155789B | 公開（公告）日： | 2022-07-26 |
| 發明（設計）人： | 雷濤;楊仁杰;董桂梅;朱文碧;黎少財;劉海學 | 申請（專利權）人： | 天津農學院 |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64;G01N21/359;G01N21/3563;G01N1/28;G01N1/38 |
| 代理公司： | 天津盛理知識產權代理有限公司 12209 | 代理人： | 張博 |
| 地址： | 300384 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 減小 土壤 類型 芳烴 熒光 強度 影響 校正 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種減小土壤類型對多環芳烴熒光強度影響的校正方法，其特征在于：包括如下步驟：
步驟1：選取5個不同類型的土壤樣本，并針對該土壤樣本制備相同濃度多環芳烴的土壤樣品；
步驟2：掃描步驟1中制備的每個土壤樣品相應的熒光譜和近紅外漫反射光譜,得到5個土壤樣品的熒光譜和近紅外漫反射光譜；
步驟3：對于步驟2中的熒光譜，選定用于建立定量分析多環芳烴的5個熒光譜帶M；
步驟4：對于步驟2中的近紅外漫反射光譜，選定用于校正的近紅外漫反射光譜波長譜帶N；
步驟5：提取步驟3中5個苯并[ghi]芘土壤樣本在487nm處的熒光強度，得到相應的熒光強度矩陣F；
步驟6：提取步驟4中近紅外漫反射光譜波長譜帶N的強度，得到相應的近紅外漫反射強度矩陣S；
步驟7：對步驟6得到的矩陣S進行10倍的乘積計算，得到變換后的近紅外漫反射強度矩陣E；
步驟8：對步驟7中得到的矩陣E進行以e為底的指數函數計算，得到對應的修正矩陣G；
步驟9：通過步驟8中得到的修正矩陣G對步驟5中所提取的熒光強度矩陣F進行校正，以減小土壤類型對多環芳烴熒光的強度影響。
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