[發(fā)明專利]用于確定物體定位的方法和裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110132964.1
• 申請(qǐng)日: 2021-01-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113205556A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: W.霍格爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司工業(yè)測(cè)量技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06T7/73
• 分類號(hào): G06T7/73
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種用于確定物體(3)——尤其是具有多個(gè)部件(3a，3b)的裝置中的部件(3b)——的定位的方法，其中，

-以光學(xué)方式對(duì)布置在該物體(3)處或布置在從該物體(3)采集的參考物體處的至少一個(gè)采集結(jié)構(gòu)(2)進(jìn)行采集，并由此獲得采集信息，

-該至少一個(gè)采集結(jié)構(gòu)(2)具有沿該采集結(jié)構(gòu)(2)的表面變化的點(diǎn)對(duì)稱的光學(xué)特性分布曲線，

-將與同該采集信息一起被采集的點(diǎn)對(duì)稱的光學(xué)特性分布曲線相對(duì)應(yīng)的位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)變換為頻域，從而獲得第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，

-根據(jù)該第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)形成第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，其中，該第二數(shù)學(xué)函數(shù)根據(jù)該第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的復(fù)數(shù)函數(shù)值的實(shí)部與虛部的關(guān)系分別形成，

-形成該第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的至少一個(gè)函數(shù)值并將其確定為關(guān)于該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的對(duì)稱點(diǎn)的位置的位置信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)是該位置的離散值的函數(shù)，并且其中，該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)通過(guò)離散傅立葉變換被變換為頻域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，針對(duì)多個(gè)頻率值形成該第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的函數(shù)值，并且其中，將通過(guò)對(duì)這些函數(shù)值進(jìn)行加權(quán)而獲得的加權(quán)值確定為對(duì)該對(duì)稱點(diǎn)的位置的度量。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，該第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的函數(shù)值在低頻值處比在較高頻值處更高地加權(quán)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，分配給大于極限頻率值或大于或等于極限頻率值的頻率值的所有函數(shù)值

-被加權(quán)為使得加權(quán)值為零，和/或

-在確定該對(duì)稱點(diǎn)的位置時(shí)不被考慮。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其中，在二維位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的情況下，該第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)形成為二維頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，其中，根據(jù)第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)形成兩個(gè)第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，這兩個(gè)第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)中的每個(gè)函數(shù)的至少一個(gè)函數(shù)值被確定為關(guān)于該對(duì)稱點(diǎn)的位置的位置信息，并且其中，這兩個(gè)第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)分別對(duì)應(yīng)于該二維位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的位置坐標(biāo)軸，并且因此，這些函數(shù)值分別具有關(guān)于對(duì)應(yīng)位置坐標(biāo)軸的位置信息。

7.一種用于確定物體(3)——尤其是具有部件(3a，3b)的裝置中的部件(3b)——的定位的裝置，其中，

-該裝置具有至少一個(gè)采集結(jié)構(gòu)(2)，該采集結(jié)構(gòu)可布置在該物體(3)處或可布置在從該物體(3)采集的參考物體處，并且該裝置具有用于對(duì)該采集結(jié)構(gòu)(2)進(jìn)行采集的采集設(shè)備(21)，

-該采集設(shè)備(21)被配置為以光學(xué)方式對(duì)該至少一個(gè)采集結(jié)構(gòu)(2)進(jìn)行采集并由此獲得采集信息，

-該至少一個(gè)采集結(jié)構(gòu)(2)具有沿該采集結(jié)構(gòu)(2)的表面變化的點(diǎn)對(duì)稱的光學(xué)特性分布曲線，

-該裝置具有評(píng)估設(shè)備(23)，其中，該評(píng)估設(shè)備(23)和/或該采集設(shè)備(21)被配置為生成與同該采集信息一起被采集的點(diǎn)對(duì)稱的光學(xué)特性分布曲線相對(duì)應(yīng)的位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，

-該評(píng)估設(shè)備(23)被配置為將該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)變換為頻域，從而獲得第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，

-該評(píng)估設(shè)備(23)被配置為根據(jù)該第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)形成第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)，其中，該第二數(shù)學(xué)函數(shù)根據(jù)該第一頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的復(fù)數(shù)函數(shù)值的實(shí)部與虛部的關(guān)系分別形成，

-該評(píng)估設(shè)備(23)被配置為形成該第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的至少一個(gè)函數(shù)值并將其確定為關(guān)于該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的對(duì)稱點(diǎn)的位置的位置信息。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)是該位置的離散值的函數(shù)，并且其中，該評(píng)估設(shè)備(23)被配置為通過(guò)離散傅立葉變換將該位置相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)變換為頻域。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝置，其中，該評(píng)估設(shè)備(23)被配置為針對(duì)多個(gè)頻率值形成該第二頻率相關(guān)數(shù)學(xué)函數(shù)的函數(shù)值，并且將通過(guò)對(duì)這些函數(shù)值進(jìn)行加權(quán)而獲得的加權(quán)值確定為對(duì)該對(duì)稱點(diǎn)的位置的度量。