[發(fā)明專利]一種基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110125616.1 | 申請日： | 2021-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN112799227A | 公開（公告）日： | 2021-05-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊克君;宇太坤 | 申請（專利權(quán)）人： | 哈爾濱新光光電科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B26/10 | 分類號： | G02B26/10 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 150028 黑龍江*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 旋轉(zhuǎn) 雙光楔 掃描 光學(xué)系統(tǒng) | ||
1.一種基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括沿光路依次設(shè)置的望遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)雙光楔掃描機(jī)構(gòu)以及成像光學(xué)系統(tǒng)；其中旋轉(zhuǎn)雙光楔掃描機(jī)構(gòu)包括結(jié)構(gòu)相同的第一光楔和第二光楔，第一光楔和第二光楔能夠通過旋轉(zhuǎn)實現(xiàn)視場掃描。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光楔和第二光楔能夠獨立旋轉(zhuǎn)，用于選取不同視場。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，在所述旋轉(zhuǎn)雙光楔掃描機(jī)構(gòu)和成像光學(xué)系統(tǒng)之間還包括至少一個反射鏡，用于折轉(zhuǎn)光路。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)雙光楔掃描機(jī)構(gòu)用于減少轉(zhuǎn)動慣量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)雙光楔掃描機(jī)構(gòu)用于減少掃描時所占用的空間大小。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光楔和第二光楔分別受第一電機(jī)和第二電機(jī)驅(qū)動發(fā)生旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于旋轉(zhuǎn)雙光楔的像方掃描光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，還包括控制器，用于計算期望達(dá)到的偏轉(zhuǎn)角度，并控制第一電機(jī)和第二電機(jī)使第一光楔和第二光楔旋轉(zhuǎn)至指定角度以接收指定視場。
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