[發(fā)明專利]一種含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺及其制備方法、聚酰亞胺薄膜及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110123004.9
• 申請(qǐng)日: 2021-01-29
• 公開（公告）號(hào): CN112831046A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧然;李丹丹;王成楊;王大明;周宏偉;趙曉剛;陳春海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉林大學(xué)
• 主分類號(hào): C08G73/10
• 分類號(hào): C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 王術(shù)娜

1.一種含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺，具有式I所示結(jié)構(gòu)：

其中，n＝100～250且n為整數(shù)；

R₁包括

R₂包括

Z包括

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺，其特征在于，所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺包括上述結(jié)構(gòu)式中，n均為100～250且n為整數(shù)。

3.權(quán)利要求1或2所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺的制備方法，包括以下步驟：

在保護(hù)性氣氛條件下，將二胺單體、二酐單體和有機(jī)溶劑混合，進(jìn)行聚合反應(yīng)，得到含雙N-取代苯并咪唑聚酰胺酸；

將所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰胺酸進(jìn)行亞胺化反應(yīng)，得到含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺；

所述二胺單體具有式II所示結(jié)構(gòu)：

式II中，R₁包括

R₂包括

所述二酐單體包括

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述二胺單體和二酐單體的摩爾比為1:(1～1.3)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述聚合反應(yīng)的溫度為-20～5℃，時(shí)間為4～16h；所述亞胺化反應(yīng)的溫度為120～400℃，時(shí)間為3～12h。

6.一種含雙N-取代苯并咪唑的聚酰亞胺薄膜，所述含雙N-取代苯并咪唑的聚酰亞胺薄膜的材質(zhì)為含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺；所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺為權(quán)利要求1或2所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺或權(quán)利要求3～5任一項(xiàng)所述制備方法制備得到的含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺。

7.權(quán)利要求6所述含雙N-取代苯并咪唑的聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括以下步驟：將含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺溶解于溶劑中進(jìn)行涂膜，得到含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺薄膜，所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺為權(quán)利要求1或2所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺或權(quán)利要求3～5任一項(xiàng)所述制備方法制備得到的含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺。

8.權(quán)利要求6所述含雙N-取代苯并咪唑的聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括以下步驟：

在保護(hù)性氣氛條件下，將二胺單體、二酐單體和有機(jī)溶劑混合，進(jìn)行聚合反應(yīng)，得到含雙N-取代苯并咪唑聚酰胺酸膠液；

將所述含雙N-取代苯并咪唑聚酰胺酸膠液涂膜后，進(jìn)行亞胺化反應(yīng)，得到含雙N-取代苯并咪唑聚酰亞胺薄膜；

所述二胺單體具有式II所示結(jié)構(gòu)：

式II中，R₁包括

R₂包括

所述二酐單體包括

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制備方法，其特征在于，所述涂膜后形成濕膜的厚度為20～400μm。

10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制備方法，其特征在于，所述涂膜完成后，還包括將所得濕膜進(jìn)行除溶劑處理，所述除溶劑處理的溫度為70～200℃，時(shí)間為3～12h。