[發(fā)明專利]一種基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110117640.0 | 申請日： | 2021-01-28 |
| 公開（公告）號： | CN112904821A | 公開（公告）日： | 2021-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸晶晶;魏崢穎;王艷生 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G05B19/418 | 分類號： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 遺傳 算法 模型 數(shù)據(jù) 分析 方法 裝置 | ||
1.一種基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，包括：
獲取預(yù)設(shè)時段內(nèi)至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)，所述輸入數(shù)據(jù)包括所述晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑、機臺數(shù)據(jù)及特征值，所述初始過貨路徑指半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，所述晶圓產(chǎn)品經(jīng)過所有生產(chǎn)機臺所形成的路徑；
調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)；
其中，所述輸出數(shù)據(jù)包括以下中的至少一項：所述晶圓產(chǎn)品的特征上限值、特征下限值、最優(yōu)過貨路徑或者問題機臺。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)包括：
調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行正向進化，調(diào)整選擇最優(yōu)機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的特征上限值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)包括：
調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行正向進化，調(diào)整選擇最優(yōu)機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的最優(yōu)過貨路徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)包括：
調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑、機臺數(shù)據(jù)及特征值進行正向進化，并對特征值低于預(yù)設(shè)值的機臺進行進化分析，預(yù)測輸出被突出的問題機臺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)包括：
調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行反向進化，調(diào)整選擇問題機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的特征下限值。
6.一種基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析裝置，其特征在于，包括：
獲取單元，用于獲取預(yù)設(shè)時段內(nèi)至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)，所述輸入數(shù)據(jù)包括所述晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑、機臺數(shù)據(jù)及特征值，所述初始過貨路徑指半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，所述晶圓產(chǎn)品經(jīng)過所有生產(chǎn)機臺所形成的路徑；
分析單元，用于調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的輸入數(shù)據(jù)進行特定方向的進化和預(yù)測分析，得到所述晶圓產(chǎn)品的輸出數(shù)據(jù)；
其中，所述輸出數(shù)據(jù)包括以下中的至少一項：所述晶圓產(chǎn)品的特征上限值、特征下限值、最優(yōu)過貨路徑或者問題機臺。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析裝置，其特征在于，
所述分析單元，具體用于調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行正向進化，調(diào)整選擇最優(yōu)機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的特征上限值。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析裝置，其特征在于，
所述分析單元，具體用于調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行正向進化，調(diào)整選擇最優(yōu)機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的最優(yōu)過貨路徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析裝置，其特征在于，
所述分析單元，具體用于調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑、機臺數(shù)據(jù)及特征值進行正向進化，并對特征值低于預(yù)設(shè)值的機臺進行進化分析，預(yù)測輸出被突出的問題機臺。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于遺傳算法模型的數(shù)據(jù)分析裝置，其特征在于，
所述分析單元，具體用于調(diào)用遺傳算法模型對所述至少一個晶圓產(chǎn)品的初始過貨路徑和特征值進行反向進化，調(diào)整選擇問題機臺過貨使得所述晶圓產(chǎn)品的特征值趨于穩(wěn)定，輸出此時所述晶圓產(chǎn)品的特征下限值。
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