[發(fā)明專利]一種基于圖像處理的陶瓷表面缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110109329.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112903703A | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李科 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 葉潔勇 |
| 地址: | 528041 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 圖像 處理 陶瓷 表面 缺陷 檢測(cè) 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及陶瓷表面缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于圖像處理的陶瓷表面缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng),所述方法包括:獲取陶瓷的RGB圖像和NIR圖像,從所述RGB圖像中提取陶瓷所在區(qū)域的第一圖像,從所述NIR圖像中提取陶瓷所在區(qū)域的第二圖像;將所述第一圖像轉(zhuǎn)換為YUV格式,得到Y(jié)UV圖像,根據(jù)YUV圖像中的Y分量圖像和第二圖像得到混合圖像;將所述混合圖像轉(zhuǎn)換為二值化圖像,分割出所述二值化圖像中的缺陷區(qū)域,根據(jù)所述缺陷區(qū)域確定陶瓷的表面缺陷類型,本發(fā)明基于圖像處理進(jìn)行陶瓷表面缺陷檢測(cè),具有高效可靠、且低成本的優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及陶瓷表面缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于圖像處理的陶瓷表面缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在陶瓷生產(chǎn)過程中,釉面缺陷是導(dǎo)致陶瓷質(zhì)量不合格的一大困擾,特別是凹釉、釉泡、棕眼、針孔等陶瓷表面缺陷,是常見的幾項(xiàng)質(zhì)量問題點(diǎn),對(duì)陶瓷表面質(zhì)量進(jìn)行檢測(cè),是保證陶瓷墻地磚外觀質(zhì)量和整個(gè)產(chǎn)品檔次的重要途徑和措施。
現(xiàn)有技術(shù)中,僅靠人工進(jìn)行肉眼質(zhì)檢,容易存在錯(cuò)誤檢測(cè)的情況,且費(fèi)時(shí)費(fèi)力,不能適應(yīng)當(dāng)前智能制造的發(fā)展需求,因此,亟待一種高效可靠、且低成本的陶瓷表面缺陷檢測(cè)手段,以解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種基于圖像處理的陶瓷表面缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng),以解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)問題,至少提供一種有益的選擇或創(chuàng)造條件。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
一種基于圖像處理的陶瓷表面缺陷檢測(cè)方法,所述方法包括以下步驟:
獲取陶瓷的RGB圖像和NIR圖像,從所述RGB圖像中提取陶瓷所在區(qū)域的第一圖像,從所述NIR圖像中提取陶瓷所在區(qū)域的第二圖像;
將所述第一圖像轉(zhuǎn)換為YUV格式,得到Y(jié)UV圖像,根據(jù)YUV圖像中的Y分量圖像和第二圖像得到混合圖像;
將所述混合圖像轉(zhuǎn)換為二值化圖像,分割出所述二值化圖像中的缺陷區(qū)域,根據(jù)所述缺陷區(qū)域確定陶瓷的表面缺陷類型。
進(jìn)一步,將所述第一圖像轉(zhuǎn)換為YUV格式的轉(zhuǎn)換公式為:Y=0.257*R+0.504*G+0.098*B+16,U=-0.148*R-0.291*G+0.439*B+128,V=0.439*R-0.368*G-0.071*B+128;
其中:Y、U、V分別為YUV圖像的三個(gè)分量,R、G、B分別為RGB圖像的三個(gè)分量。
進(jìn)一步,所述混合圖像的計(jì)算公式為:混合圖像=255*(第二圖像/YUV圖像中的Y分量圖像)。
進(jìn)一步,所述將所述混合圖像轉(zhuǎn)換為二值化圖像,分割出所述二值化圖像中的缺陷區(qū)域,根據(jù)所述缺陷區(qū)域確定陶瓷的表面缺陷類型,包括:
將所述混合圖像轉(zhuǎn)換為二值化圖像,將所述二值化圖像按設(shè)定比例值等比例縮小,得到基準(zhǔn)模;所述設(shè)定比例值的取值范圍為[0.001,0.01];
從所述二值化圖像的一端開始,以基準(zhǔn)模對(duì)所述二值化圖像進(jìn)行分割,得到基準(zhǔn)圖像;
計(jì)算每張基準(zhǔn)圖像的亮度平均值,根據(jù)所述亮度平均值確定亮度區(qū)間;
將偏離所述亮度區(qū)間的圖像區(qū)域作為所述基準(zhǔn)圖像中的缺陷區(qū)域;
確定所述缺陷區(qū)域的大小,若所述缺陷區(qū)域小于設(shè)定閾值,則確定所述缺陷區(qū)域?yàn)辄c(diǎn)狀缺陷;若所述缺陷區(qū)域大于設(shè)定閾值,通過目標(biāo)檢測(cè)模型確定陶瓷的表面缺陷類型,所述缺陷類型包括凹釉、釉泡、棕眼、以及針孔。
進(jìn)一步,所述通過目標(biāo)檢測(cè)模型確定陶瓷的表面缺陷類型,包括:
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
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G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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