[發(fā)明專利]雙疇光配向LCD光路系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110107547.1 | 申請日: | 2021-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN112904620A | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林堅普;王棟;張永愛;郭太良;周雄圖;吳朝興;林志賢;劉皓軒;徐萬顏 | 申請(專利權(quán))人: | 福州大學(xué);閩都創(chuàng)新實驗室 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 福州元創(chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100 | 代理人: | 丘鴻超;蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 362251 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雙疇光配 lcd 系統(tǒng) | ||
1.一種雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于,包括:
光源模組,用于提供入射方向不同的兩組雙疇配向光源;
掩膜版模組,包括:帶有透光區(qū)和非透光區(qū)的掩膜版;
待配向基板,包括:兩組不同配向角的配向區(qū);
所述配向角與雙疇配向光源的入射方向相對應(yīng);每個所述透光區(qū)對應(yīng)待配向基板的一個顯示像素,每個所述顯示像素包括兩個不同配向角的配向區(qū);所述掩膜版設(shè)置于待配向基板與光源模組之間,且掩膜版的透光區(qū)的中心位置在待配向基板上的投影位于同一個顯示像素中兩個配向區(qū)的中間;
在維持所述掩膜版與待配向基板相對位置保持不變的情況下,所述光源模組提供的兩組雙疇配向光源在同一時間透過掩膜版的透光區(qū)且投射到不同組別的配向區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:所述待配向基板裝配于裝載平臺上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:
兩組所述雙疇配向光源的入射方向分別為以第一入射角θ1和第二入射角θ2入射,第一入射角θ1和第二入射角θ2為入射方向與待配向基板法線的夾角,且有θ2=-θ1;
所述掩膜版與待配向基板的距離為第一距離d;
位于同一個所述顯示像素中的兩個配向區(qū)分別為第一配向區(qū)和第二配向區(qū),且配向?qū)挾葹榈谝粚挾萷,第一配向區(qū)與第二配向區(qū)的間隙為第一間隙q;
所述第一入射角θ1、第二入射角θ2、第一距離d、第一寬度p以及第一間隙q具有d=0.5×(p+q)×|cotθ1|的關(guān)系。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:所述掩膜版模組為固定設(shè)置,使第一距離d保持不變;所述光源模組為可調(diào)結(jié)構(gòu),用于調(diào)整第一入射角θ1和第二入射角θ2使兩組雙疇配向光源投射到不同組別的配向區(qū)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:所述光源模組提供的第一入射角θ1和第二入射角θ2保持不變;所述掩膜版與待配向基板之間的第一距離d可調(diào),使兩組雙疇配向光源投射到不同組別的配向區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:所述顯示像素的兩個配向區(qū)為等大的矩形;所述配向區(qū)和透光區(qū)的大小相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:多個所述顯示像素構(gòu)成一列像素組;一列所述像素組分為左配向區(qū)組和右配向區(qū)組,且所述左配向區(qū)組、右配向區(qū)組以及透光區(qū)為等寬矩形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:在所述光源模組對待配向基板進行配向時,所述光源模組同時產(chǎn)生入射方向不同的兩組雙疇配向光源以對待配向基板進行配向。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:
所述光源模組包括:初始光源燈、半反射半透射鏡以及反射鏡;
所述初始光源燈發(fā)出的初始光通過半反射半透射鏡以及反射鏡,分為入射方向不同的兩組雙疇光配向光,作為雙疇配向光源。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙疇光配向LCD光路系統(tǒng),其特征在于:所述掩膜版模組安裝在升降機構(gòu)上,所述升降機構(gòu)用于改變掩膜版與待配向基板的間距。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





