[發明專利]一種高增益反足Vivaldi天線有效
| 申請號： | 202110105027.7 | 申請日： | 2021-01-26 |
| 公開（公告）號： | CN112909527B | 公開（公告）日： | 2021-12-24 |
| 發明（設計）人： | 李俊;王彥杰 | 申請（專利權）人： | 華南理工大學 |
| 主分類號： | H01Q1/38 | 分類號： | H01Q1/38;H01Q1/00 |
| 代理公司： | 廣州海心聯合專利代理事務所(普通合伙) 44295 | 代理人： | 黃為;冼俊鵬 |
| 地址： | 510640 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 增益 vivaldi 天線 | ||
1.一種高增益反足Vivaldi天線，包括：設置在介質基板下側面的底層天線板(10)以及設置在介質基板上側面的頂層天線板(20)；底層天線板(10)和頂層天線板(20)的饋電部分重疊并加載對應饋電結構；底層天線板(10)上端向上延伸并偏向一側形成底層反足(11)，頂層天線板(20)上端向上延伸并偏向另一側形成頂層反足(21)；其特征在于，底層反足(11)靠近頂層反足(21)的底層輻射邊(12)為線性邊緣，頂層反足(21)靠近底層反足(11)的頂層輻射邊(22)為線性邊緣，頂層輻射邊(22)和底層輻射邊(12)為對稱結構；
底層反足(11)遠離底層輻射邊(12)的弧形邊緣設有若干底層金屬過孔(13)，頂層輻射邊(22)遠離頂層輻射邊(22)的弧形邊緣設有若干頂層金屬過孔(23)。
2.根據權利要求1所述高增益反足Vivaldi天線，其特征在于，所述若干底層金屬過孔(13)的間距為距離D，所述若干頂層金屬過孔(23)的間距也為距離D。
3.根據權利要求2所述高增益反足Vivaldi天線，其特征在于，所述若干底層金屬過孔(13)和若干頂層金屬過孔(23)的直徑取值范圍為[0.2mm,0.4mm]。
4.根據權利要求3所述高增益反足Vivaldi天線，其特征在于，所述若干底層金屬過孔(13)和若干頂層金屬過孔(23)的直徑為0.3mm。
5.根據權利要求4所述高增益反足Vivaldi天線，其特征在于，所述距離D的取值范圍為[0.34mm,0.55mm]。
6.根據權利要求2所述高增益反足Vivaldi天線，其特征在于，所述距離D為0.45mm。
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