[發(fā)明專(zhuān)利]光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110104814.X
• 申請(qǐng)日: 2021-01-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112934850A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王嘉才;游聰敏;孫天賜;劉兆亮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 泉芯集成電路制造(濟(jì)南)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B08B5/04
• 分類(lèi)號(hào): B08B5/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專(zhuān)利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 劉曾

本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，該光罩雜質(zhì)去除設(shè)備，包括承載裝置和真空吸附槍?zhuān)休d裝置用于承載光罩，真空吸附槍與承載裝置連接，用于吸附光罩表面的雜質(zhì)。本發(fā)明將光罩放置在承載裝置上，然后通過(guò)真空吸附槍吸附光罩表面的雜質(zhì)，從而利用吸附的方式去除光罩表面的雜質(zhì)，而吸附過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)微粒滾動(dòng)現(xiàn)象，避免了刮傷光罩的表面，同時(shí)，由于吸附的特性，使得雜質(zhì)不會(huì)因?yàn)闅饬飨菰诠庹謨?nèi)，且能夠?qū)ο萑牍庹謨?nèi)的雜質(zhì)進(jìn)行移除，能夠有效去除光罩表面的雜質(zhì)，保證了光罩的質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法。

背景技術(shù)

光罩基材(blank)或護(hù)膜(pellicle)上的微粒雜質(zhì)(particle)會(huì)影響光罩生產(chǎn)良率及曝光。由于光罩在生產(chǎn)操作或存放時(shí)由于環(huán)境關(guān)系，blank及pellicle上很有可能粘附particle。若particle無(wú)法移除，blank則無(wú)法使用，pellicle需送光罩廠進(jìn)行pellicle更換的送修(Repair)。如此可能增加光罩生產(chǎn)成本及芯片生產(chǎn)的等待時(shí)間，嚴(yán)重甚至影響光罩壽命。因此如何有效的移除光罩基材(blank)或護(hù)膜(pellicle)上的particle成為光罩廠的重要課題。

現(xiàn)有技術(shù)中，通常是利用氮?dú)鈽尰蝻L(fēng)刀利用高壓氣體吹除的方式除去光罩表面的雜質(zhì)，這種方式對(duì)陷入基材光阻以及護(hù)膜內(nèi)的雜質(zhì)無(wú)法移除，且雜質(zhì)容易因?yàn)闅饬鞔笮　⒎较蛞约按党恢貌徽_而陷在護(hù)膜以及光阻內(nèi)，導(dǎo)致雜質(zhì)無(wú)法吹除。同時(shí)容易因?yàn)楦邏捍党龝r(shí)造成雜質(zhì)微粒滾動(dòng)而導(dǎo)致基材無(wú)法使用及護(hù)膜刮傷，影響光罩質(zhì)量，且需要返工。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的包括，例如，提供了一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法，其能夠有效去除光罩表面的雜質(zhì)，并且避免了刮傷光罩表面，保證了光罩的質(zhì)量。

本發(fā)明的實(shí)施例可以這樣實(shí)現(xiàn)：

第一方面，本發(fā)明提供一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備，包括承載裝置和真空吸附槍?zhuān)龀休d裝置用于承載光罩，所述真空吸附槍與所述承載裝置連接，用于吸附所述光罩表面的雜質(zhì)。

在可選的實(shí)施方式中，所述真空吸附槍包括吸附頭、真空吸附管和固定機(jī)構(gòu)，所述真空吸附管與所述固定機(jī)構(gòu)連接，所述固定機(jī)構(gòu)與所述承載裝置連接，用于固定所述真空吸附管，所述吸附頭可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在所述真空吸附管的進(jìn)氣端，并與所述真空吸附管連通，用于吸附所述光罩表面的雜質(zhì)。

在可選的實(shí)施方式中，所述固定機(jī)構(gòu)包括固定卡環(huán)、支撐桿和固定套環(huán)，所述固定卡環(huán)卡接在所述承載裝置上，所述支撐桿的一端與所述固定卡環(huán)連接，所述固定套環(huán)設(shè)置在所述支撐桿的另一端，并與所述真空吸附管連接。

在可選的實(shí)施方式中，所述支撐桿包括固定套筒、調(diào)節(jié)桿和第一調(diào)節(jié)旋鈕，所述固定套筒與所述固定卡環(huán)連接，所述調(diào)節(jié)桿部分容置在所述固定套筒內(nèi)，所述固定卡環(huán)設(shè)置在所述調(diào)節(jié)桿上，所述第一調(diào)節(jié)旋鈕設(shè)置在所述固定套筒上，用于抵持并固定所述調(diào)節(jié)桿伸入所述固定套筒的部分。

在可選的實(shí)施方式中，所述真空吸附管的進(jìn)氣端還設(shè)置有第二調(diào)節(jié)旋鈕，所述吸附頭轉(zhuǎn)動(dòng)套設(shè)在所述真空吸附管的端部，所述第二調(diào)節(jié)旋鈕用于抵持并固定所述吸附頭。

在可選的實(shí)施方式中，所述吸附頭上設(shè)置有真空吸力控制器，所述真空吸力控制器用于控制所述吸附頭的吸力。

在可選的實(shí)施方式中，所述承載裝置包括座體、承載臺(tái)、支撐臂和顯微鏡，所述承載臺(tái)設(shè)置在所述座體上，所述支撐臂設(shè)置在承載臺(tái)上，所述顯微鏡設(shè)置在所述支撐臂的頂端，并與所述承載臺(tái)相對(duì)應(yīng)。

第二方面，本發(fā)明提供一種光罩雜質(zhì)去除方法，適用于如前述實(shí)施方式任一項(xiàng)所述的光罩雜質(zhì)去除設(shè)備，包括：

利用真空吸附槍吸附放置在承載裝置上的光罩表面的雜質(zhì)。