[發明專利]一種凈化氣相偏二甲肼的方法

有效

• 申請號: 202110103387.3
• 申請日: 2021-01-26
• 公開（公告）號: CN112844040B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發明（設計）人: 賈瑛;侯若夢;呂曉猛;沈可可;黃遠征
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍火箭軍工程大學
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/54;B01J27/135;A62D3/176;A62D101/26
• 代理公司: 北京豐浩知識產權代理事務所(普通合伙) 11781
• 代理人: 王純富

本發明公開了一種凈化氣相偏二甲肼的方法，該方法包括：利用水熱和浸漬的方法制備AgBr/TiO₂/rGA，并在模擬太陽光下對氣態偏二甲肼進行光催化降解。該氣凝膠所用制備方法簡單，結構穩定，具有較大比表面積，吸附性能好，表面有豐富納米銀顆粒，有助于對可見光的吸收，兩種半導體形成的異質結，有助于電子的傳輸，提高催化性能，且具有光熱效應；與現有技術相比，該方法可以利用太陽光的光能和熱能，環?？苫厥?，可光催化降解氣態偏二甲肼。

技術領域

本發明涉及環境技術領域，涉及降解氣相偏二甲肼的催化氧化工藝，特別涉及一種凈化氣相偏二甲肼的方法。

背景技術

偏二甲肼(UDMH)是火箭和導彈發動機液體推進劑的主要燃料，廣泛應用于國防和航天工業。UDMH氣體在使用和儲存過程中容易產生，具有毒性、惡臭、致突變性和致癌性，需要對其進行處理。在降解產物中，NDMA(N-亞硝基二乙胺)是一種高度致癌物質，美國環境保護局(USEPA)確定飲用水中NDMA的理論致癌風險水平為0.7ng/L。當UDMH在自然條件下暴露時，NDMA會自發產生。在常用的UDMH降解方法中，如添加臭氧或紫外光照射，NDMA含量明顯升高。因此，NDMA的水平值得研究；另一方面，UDMH在常溫常壓下的降解更值得研究，以解決實際中的泄漏問題。

目前對UDMH氣相處理的研究主要集中在紫外光燈或高溫環境下，但易產生劇毒物質NDMA。在現行相關研究中，Z、R.Ismagilov利用多相催化劑Cu_xMg1-xCr₂O₄/Al₂O₃實現了UDMH的深度催化氧化，在150-400℃的溫度范圍內產生高CO₂產率和低NOx產率，在輻照下通過空穴和其它活性基團將大的有機物催化分解為小的無毒物質。催化濕式過氧化氫氧化(CWPO)結合真空紫外(VUV)輻射技術是近年來發展起來的一種處理高濃度UDMH廢水的方法，其處理效果顯著，UDMH轉化率約為100％。然而，在可見光下，尤其是在流動氣體中，光催化劑降解氣相UDMH還鮮有研究。

現有技術缺少一種可利用可見光光催化劑、在可見光下降解氣相UDMH的有效方法，這已成為亟需解決的問題。

發明內容

鑒于解決現有技術缺陷的目的，本發明提出一種凈化氣相偏二甲肼的方法。

為實現上述目的，本發明的技術方案為：利用水熱和浸漬的方法制備AgBr/TiO₂/rGA，利用可見光對氣態偏二甲肼進行光催化降解。

優選地，所述水熱和浸漬的方法制備AgBr/TiO₂/rGA，包括氧化石墨烯(GO)的準備、TiO₂/rGA復合材料的制備、AgBr/TiO₂/RGA的制備。

優選地，所述氧化石墨烯(GO)的準備，包括如下步驟：以3％～5％混合天然石墨與濃H₂SO₄，向混合物中添加NaNO₃和KMnO₄，加入H₂O₂，過濾溶液并以稀釋鹽酸洗滌(HCl：H₂O＝1:20～1:5)，獲得GO。

優選地，所述TiO₂/rGA復合材料的制備，包括如下步驟：將GO、葡萄糖和Ti(SO₄)₂混勻，置于160℃～200℃保持10h～14h的聚四氟乙烯襯里高壓釜中；優選地，所述步驟中聚四氟乙烯襯里高壓釜為180℃保持12h。