[發(fā)明專利]一種檢測抗體親和力的方法、系統(tǒng)及其應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110099159.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112903646B | 公開(公告)日: | 2023-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜晶 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海睿鈺生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 201615 上海市松*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測 抗體 親和力 方法 系統(tǒng) 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種檢測抗體親和力的方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
獲取孔板中待測樣品的顯微圖像,所述待測樣品為靶細(xì)胞與候選抗體混合并孵育后,再加入攜帶熒光標(biāo)記A的二抗混合并孵育后得到的細(xì)胞樣品,所述待測樣品的顯微圖像經(jīng)與所述熒光標(biāo)記A匹配的熒光激發(fā)光激發(fā)后進(jìn)行顯微成像得到;
分析所述待測樣品的顯微圖像,得到所述待測樣品的圖像分析結(jié)果;
基于所述待測樣品的圖像分析結(jié)果確定所述候選抗體的親和力;
所述獲取孔板中待測樣品的顯微圖像包括:通過高通量細(xì)胞分析系統(tǒng)的顯微成像模塊對(duì)孔板上各孔中的待測樣品分別進(jìn)行拍攝,得到各待測樣品的顯微圖像;
或者,通過高通量細(xì)胞分析系統(tǒng)的控制樣品自動(dòng)更換模塊更新孔板,再由顯微成像模塊對(duì)更新后的孔板上的待測樣品進(jìn)行拍攝,得到所述更新后的孔板上的待測樣品的顯微圖像;
所述方法還包括:通過高通量細(xì)胞分析系統(tǒng)的分析處理模塊識(shí)別所述顯微圖像中的抗體結(jié)合細(xì)胞和細(xì)胞,根據(jù)識(shí)別結(jié)果得到抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù),并根據(jù)所述抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)和總細(xì)胞數(shù)得到所述抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占所述總細(xì)胞數(shù)的百分比;
所述方法還包括:通過高通量細(xì)胞分析系統(tǒng)的分析處理模塊分別確定顯微圖像中每個(gè)抗體結(jié)合細(xì)胞的熒光強(qiáng)度,根據(jù)各熒光強(qiáng)度和顯微圖像中的總細(xì)胞數(shù),得到各所述抗體結(jié)合細(xì)胞的平均熒光強(qiáng)度;
所述方法還包括構(gòu)建擬合曲線確定所述候選抗體的親和力;
所述擬合曲線由高通量細(xì)胞分析系統(tǒng)的分析處理模塊進(jìn)行擬合,所述擬合的方法為:以所述候選抗體的濃度、平均熒光強(qiáng)度/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占總細(xì)胞數(shù)的百分比為變量,得到反映抗體親和力的劑量依賴曲線圖;
所述方法還包括:基于量-效關(guān)系方程擬合得到反映抗體親和力的劑量依賴曲線:
Y=Bottom+(Top-Bottom)/(1+10^((Log?EC50-X)*Hill?Slope)
X表示候選抗體的濃度;
Y表示候選抗體在X濃度下,待測樣品的平均熒光強(qiáng)度/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占總細(xì)胞數(shù)的百分比;
Bottom表示陰性對(duì)照孔中待測樣品的平均熒光強(qiáng)度/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占總細(xì)胞數(shù)的百分比;
Top表示陽性對(duì)照孔中待測樣品的平均熒光強(qiáng)度/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)/抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占總細(xì)胞數(shù)的百分比;
EC50表示能引起50%個(gè)體有效的候選抗體濃度;
Hill?Slope為斜率,通過至少兩組XY數(shù)據(jù)求解得到;
所述孔板有多個(gè)樣品孔,所述候選抗體至少包括兩種類型;
所述多個(gè)樣品孔中同一類型的候選抗體至少包括兩個(gè)濃度;
所述靶細(xì)胞包括攜帶熒光標(biāo)記B的靶細(xì)胞,所述熒光標(biāo)記A和熒光標(biāo)記B所匹配的熒光激發(fā)光不同;
所述方法還包括獲取所述熒光標(biāo)記B匹配的熒光激發(fā)光激發(fā)后得到的待測樣品的顯微圖像;
所述方法還包括:針對(duì)分別在與熒光標(biāo)記A匹配的熒光通道下拍攝的待測樣品的第一顯微圖像和與熒光標(biāo)記B匹配的熒光通道下拍攝的所述待測樣品的第二顯微圖像,對(duì)所述第一顯微圖像和所述第二顯微圖像進(jìn)行對(duì)比,根據(jù)對(duì)比結(jié)果確定各細(xì)胞中的當(dāng)前細(xì)胞在所述第一顯微圖像和所述第二顯微圖像中的位置信息是否一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述候選抗體通過梯度稀釋得到不同濃度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述待測樣品的圖像分析結(jié)果包括:平均熒光強(qiáng)度、總細(xì)胞數(shù)、抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)或抗體結(jié)合細(xì)胞數(shù)占總細(xì)胞數(shù)的百分比中的任意一種或至少兩種的組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述靶細(xì)胞與候選抗體混合前,獲取所述靶細(xì)胞的顯微圖像并基于所述靶細(xì)胞的顯微圖像確定所述靶細(xì)胞的數(shù)量。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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