[發明專利]一種以核酸適配體為模板合成的雙模態納米羥基磷灰石的方法有效
| 申請號： | 202110099079.8 | 申請日： | 2021-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN112870381B | 公開（公告）日： | 2022-03-15 |
| 發明（設計）人： | 周蓉卉;張文青;李婷 | 申請（專利權）人： | 四川大學 |
| 主分類號： | A61K49/00 | 分類號： | A61K49/00;A61K49/08;A61K49/10 |
| 代理公司： | 四川省成都市天策商標專利事務所(有限合伙) 51213 | 代理人： | 龔海月 |
| 地址： | 610000 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 核酸 適配體 模板 合成 雙模 納米 羥基 磷灰石 方法 | ||
1.一種以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，用無酶水溶解核酸適配體AS1411，攪拌條件下，加入Ca2+溶液，AS1411與Ca2+的摩爾濃度比大于或者等于1/1000，依靠AS1411與Ca2+的強靜電吸附作用，實現AS1411與Ca2+的結合，依次加入Gd3+溶液和Tb3+溶液，通過Gd3+、Tb3+與Ca2+的離子交換作用實現Gd3+離子和Tb3+離子的共摻雜；調節合成反應體系溶液pH為8-10，加入F-離子，攪拌均勻后逐滴加入PO43-溶液，室溫下攪拌2-24h，得到雙模態納米羥基磷灰石AS1411-nHAp:Gd/Tb。
2.根據權利要求1所述的以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，所述的合成體系中總陽離子濃度與總陰離子濃度的摩爾比大于或等于1.67。
3.根據權利要求1所述的以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，所述Gd3+由Gd(NO3)3?6H2O提供，所述Tb3+由Tb(NO3)3?5H2O提供，所述Ca2+由Ca(NO3)2?4H2O提供，所述PO43-由Na3PO4·12H2O提供。
4.根據權利要求1所述的以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，所述逐滴加入的滴加速度為2mL/min。
5.根據權利要求1所述的以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，所述F-離子由NaF提供。
6.根據權利要求5所述的以核酸適配體為模板合成雙模態納米羥基磷灰石的方法，其特征在于，使用NaOH調節合成反應體系溶液的pH。
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