[發(fā)明專利]水體營(yíng)養(yǎng)鹽和化學(xué)需氧量的陸基遙感監(jiān)測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110097894.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112816421A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張運(yùn)林;孫曉;李娜;張毅博;施坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院南京地理與湖泊研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25;G06N3/02;G06N3/08 |
| 代理公司: | 江蘇致邦律師事務(wù)所 32230 | 代理人: | 徐蓓;尹妍 |
| 地址: | 210008 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水體 營(yíng)養(yǎng)鹽 化學(xué) 需氧量 遙感 監(jiān)測(cè) 方法 | ||
1.一種水體營(yíng)養(yǎng)鹽和化學(xué)需氧量的陸基遙感監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,包括:
S1、將高光譜成像儀架設(shè)于不同類型水體岸邊進(jìn)行不同觀測(cè)場(chǎng)景下水體遙感反射比連續(xù)高頻自動(dòng)觀測(cè);所述不同觀測(cè)場(chǎng)景指不同天況、水況的水體遙感反射比;
S2、現(xiàn)場(chǎng)定時(shí)采集表層水樣,實(shí)驗(yàn)測(cè)定水樣總氮、總磷、化學(xué)需氧量濃度數(shù)據(jù);
S3、匹配同步觀測(cè)的遙感反射比和水樣總氮、總磷、化學(xué)需氧量濃度數(shù)據(jù),構(gòu)建覆蓋不同類型水體、觀測(cè)場(chǎng)景的同步樣本數(shù)據(jù)集;
S4、利用機(jī)器學(xué)習(xí)模型訓(xùn)練數(shù)據(jù)集,建立總氮、總磷、化學(xué)需氧量反演模型;
S5、將建立的反演模型應(yīng)用至S1所述高光譜成像儀,實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守下水體表層氮磷營(yíng)養(yǎng)鹽和化學(xué)需氧量快速實(shí)時(shí)高頻自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述不同類型水體包括不同污染水平和清潔程度的內(nèi)陸/海洋水體;所述天況包括不同天氣狀態(tài)、不同時(shí)間段;所述水況包括不同風(fēng)浪程度、不同渾濁度和不同水華程度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述高光譜成像儀通過(guò)固定裝置架設(shè)于岸邊;
所述固定裝置包括固定于岸邊的支桿和活動(dòng)連接于支桿上端向水體方向延伸的延伸桿;所述高光譜成像儀固定于延伸桿上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述固定裝置上還設(shè)有包含數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置的控制箱和太陽(yáng)能供電裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述固定裝置上安裝RGB相機(jī),用于視頻監(jiān)控觀測(cè)點(diǎn)位水面及陸地各類干擾情況。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的方法,其特征在于,所述高光譜成像儀距離水面高度為4-5m。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述采集的表層水樣為水面以下50 cm范圍內(nèi)的水柱。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述同步樣本數(shù)據(jù)集覆蓋各類不同觀測(cè)場(chǎng)景;樣本數(shù)據(jù)集中的同步樣本數(shù)目大于300個(gè)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在400-900nm中以10 nm為步長(zhǎng)取值,選取共51個(gè)波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的遙感反射比作為輸入要素;總氮、總磷和化學(xué)需氧量濃度作為輸出要素,建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,對(duì)機(jī)器學(xué)習(xí)模型輸入數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理,剔除反射比為1的飽和數(shù)據(jù),之后基于均值方差歸一化方法對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理。
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G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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