[發明專利]一種顯示方法、顯示組件及電子設備

在審

• 申請號: 202110097257.3
• 申請日: 2021-01-25
• 公開（公告）號: CN112750969A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 黃閣
• 申請（專利權）人: 歌爾科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32
• 代理公司: 青島聯智專利商標事務所有限公司 37101
• 代理人: 張翠紅

1.一種顯示方法，用于電子設備，其特征在于，包括如下步驟：

對所述電子設備的殼體進行平面處理，以形成顯示基板；

在所述顯示基板上制作絕緣的間壁，在所述顯示基板的所述間壁之間進行金屬陰極的光刻布線，并在所述金屬陰極上方蒸鍍形成第一有機導電薄膜；

在所述金屬陰極上方蒸鍍N型有機發光材料，以形成電子傳輸層；

在所述電子傳輸層上方蒸鍍有機發光材料，以形成發光層；

在所述發光層上方蒸鍍P型有機發光材料，以形成空穴傳輸層；

在所述空穴傳輸層的上方蒸鍍形成第二有機導電薄膜，所述第二有機導電薄膜的頂表面與所述間壁的頂表面平齊；

在所述第二有機導電薄膜上方進行ITO陽極的光刻布線，其中同一像素中的ITO陽極之間絕緣；

利用液態透明封裝體進行整體封裝。

2.根據權利要求1所述的顯示方法，其特征在于，所述間壁包括第一絕緣層和陰極隔離柱；

在所述顯示基板上制作用于隔離同一像素的第一絕緣層；

在所述第一絕緣層上方制備所述陰極隔離柱，用于隔離不同像素，所述第二有機導電薄膜的頂表面與所述陰極隔離柱的頂表面平齊。

3.根據權利要求2所述的顯示方法，其特征在于，

在所述陰極隔離柱的頂表面還制作有第二絕緣層，所述第二絕緣層的頂表面與所述ITO陽極的頂表面平齊。

4.根據權利要求3所述的顯示方法，其特征在于，

所述第一絕緣層、陰極隔離柱及第二絕緣層采用旋涂法工藝形成；

所述第一絕緣層、陰極隔離柱及第二絕緣層均采用光敏有機絕緣材料。

5.根據權利要求2所述的顯示方法，其特征在于，在所述P型有機發光材料的上方蒸鍍形成第二有機導電薄膜，具體為：

在所述P型有機發光材料的上方蒸鍍形成有機導電薄膜，所述有機導電薄膜覆蓋所述P型有機發光材料及對應的陰極隔離柱的頂表面；

對所述有機導電薄膜進行膜面消減及平面處理，形成所述第二有機導電薄膜，其中所述有機導電薄膜平整且由所述陰極隔離柱分隔，且所述第二有機導電薄膜的頂表面與所述陰極隔離柱的頂表面平齊。

6.根據權利要求5所述的顯示方法，其特征在于，

所述第一有機導電薄膜、N型有機發光材料、有機發光材料、P型有機發光材料及第二有機導電薄膜分別采用真空蒸鍍法沉積成膜。

7.根據權利要求1所述的顯示方法，其特征在于，對所述電子設備殼體的平面處理具體為：

通過化學方式和物理方式對所述殼體進行處理，使所述殼體形成適于電路蒸鍍的平面載體；

所述化學方法至少包括酸堿處理，所述物理方式至少包括等離子清洗和惰性氣體濺射。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的顯示方法，其特征在于，所述顯示方法還包括：

在封裝完成后的液態透明玻璃體的外側加覆透明保護材料。

9.一種顯示組件，其包括殼體，其特征在于，所述殼體被處理為具有平面；所述顯示組件還包括：

絕緣的間壁，其設置在所述殼體的平面上；

金屬陰極，其光刻布線在所述平面的所述間壁之間；

第一有機導電薄膜，其形成在所述金屬陰極上方；

電子傳輸層，其在所述金屬陰極上方蒸鍍N型有機發光材料形成；

發光層，其在所述電子傳輸層上方蒸鍍有機發光材料形成；

空穴傳輸層，其在所述發光層上方蒸鍍P型有機發光材料形成；

第二有機導電薄膜，其在所述空穴傳輸層上方蒸鍍形成，且所述第二有機導電薄膜的頂表面與所述間壁的頂表面平齊；

ITO陽極，其光刻布線在所述第二有機導電薄膜上方，其中同一像素中的ITO陽極之間絕緣；

液態透明封裝體，其用于整體封裝。

10.一種電子設備，其特征在于，包括權利要求9所述的顯示組件。