[發(fā)明專(zhuān)利]一種增加釉面光滑度的制釉方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110096732.5
• 申請(qǐng)日: 2021-01-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112919807A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉增強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 青島碩遠(yuǎn)硅膠科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C03C8/20
• 分類(lèi)號(hào): C03C8/20;C03C8/04;C04B41/86
• 代理公司: 杭州潤(rùn)淶知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33358
• 代理人: 李磊

本發(fā)明公開(kāi)了一種增加釉面光滑度的制釉方法，包括如下重量含量的礦物原料，滑石2～15份、長(zhǎng)石30～80份、碳酸鋇3～10份、石灰石10～40份、氧化鋅5～20份、氧化鋁3～18份、膨潤(rùn)土3～15份、石英1～30份、硅酸鋯1～15份、白云石10～20份、黏土10～40份、氯化鈉5～10份、熔塊5～30份、水150～300份、松節(jié)油3～25份、檸檬酸鈉1～10份、骨粉2～30份。本發(fā)明制釉方法簡(jiǎn)單、方便操作，通過(guò)改變傳統(tǒng)釉料配方，利用紫外線(xiàn)對(duì)釉料進(jìn)行輻照，提高了釉料的分散性，使制得的釉面平整光滑，光澤度好，并具有耐腐蝕、耐清洗，硬度高，穩(wěn)定性高的特點(diǎn)，滿(mǎn)足現(xiàn)代人高標(biāo)準(zhǔn)要求，具有廣闊的市場(chǎng)應(yīng)用前景。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷釉的制備方法技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種增加釉面光滑度的制釉方法。

背景技術(shù)

釉是一種硅酸鹽，陶瓷器上所施的釉一般以石英、長(zhǎng)石、黏土等為原料，經(jīng)研磨、加水調(diào)制后，涂覆于坯體表面，經(jīng)過(guò)一定溫度的焙燒而熔融，溫度下降時(shí)，形成陶瓷表面的玻璃質(zhì)薄層。它可以使陶瓷器增加機(jī)械強(qiáng)度、熱穩(wěn)定性、介電強(qiáng)度和防止液體、氣體的侵蝕，而且可以增加陶瓷或瓷器美觀(guān)和便于洗拭、不被塵土沾染等。近年來(lái)，隨著人們物質(zhì)生活水平的提高，人們對(duì)陶瓷產(chǎn)品表面的光滑度也提出了更高的要求，但是現(xiàn)有的陶瓷器表面的釉面的光滑度，遠(yuǎn)遠(yuǎn)沒(méi)有達(dá)到人們的需求。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中所存在的缺陷，本發(fā)明提供一種增加釉面光滑度的制釉方法。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種增加釉面光滑度的制釉方法，包括如下步驟：

(1)配備如下重量含量的礦物原料：滑石2～15份、長(zhǎng)石30～80份、碳酸鋇3～10份、石灰石10～40份、氧化鋅5～20份、氧化鋁3～18份、膨潤(rùn)土3～15份、石英1～30份、硅酸鋯1～15份、白云石10～20份、黏土10～40份、氯化鈉5～10份、熔塊5～30份、水150～300份、松節(jié)油3～25份、檸檬酸鈉1～10份、骨粉2～30份；

(2)將除了熔塊、骨粉和水以外的其他原料放入球磨機(jī)中，進(jìn)行干法球磨，混合均勻，然后對(duì)混合后的物料進(jìn)行真空干燥；

(3)將烘干后的物料用紫外線(xiàn)照射儀進(jìn)行照射處理15～30分鐘，紫外線(xiàn)輻照的總劑量為22～40μW.s/cm²；

(4)將上述物料放入窯爐中高溫煅燒，煅燒溫度為700～850℃；

(5)將煅燒后的物料和剩余的原料放入球磨機(jī)中進(jìn)行濕法球磨混合，將球磨后的物料過(guò)篩后即可得到釉漿。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述長(zhǎng)石包括鈉長(zhǎng)石和鉀長(zhǎng)石，其中，鈉長(zhǎng)石為11～45份，鉀長(zhǎng)石為19～35份。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述干法球磨時(shí)間為2～4h，球磨轉(zhuǎn)速為450～600r/s。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述濕法球磨時(shí)間為3～5h，球磨轉(zhuǎn)速為650～800r/s，得到325目篩篩余的釉漿。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述窯爐中高溫煅燒的時(shí)間為1～2.5h。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述熔塊中各組分重量百分比為，SiO₂20～40％，Al₂O₃ 5～8％，B₂O₃ 1～13％，CaO 8～10％，MgO 0.5～8％，ZnO 5～14％，K₂O 0～10％，Na₂O 0～5％。

上述的一種增加釉面光滑度的制釉方法，所述釉漿在施釉前，需要將坯體表面打磨干凈，然后通過(guò)澆釉法進(jìn)行施釉，在室溫下晾干后在1000～1200℃的高溫爐中保溫0.5～1h。

與現(xiàn)有技術(shù)相比本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)和突出性效果：