[發(fā)明專利]用于光電化學(xué)陰極保護(hù)的納米草叢復(fù)合光電材料及制備和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110095271.X | 申請日: | 2021-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN112921324B | 公開(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳卓元;姜旭宏;孫萌萌;鹿桂英;荊江平 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院海洋研究所 |
| 主分類號: | C23F13/14 | 分類號: | C23F13/14 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002 | 代理人: | 李穎 |
| 地址: | 266071 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 光電 化學(xué) 陰極保護(hù) 納米 草叢 復(fù)合 材料 制備 應(yīng)用 | ||
1.一種用于光電化學(xué)陰極保護(hù)的ZnIn2S4/TiO2納米草叢復(fù)合光電材料,其特征在于:復(fù)合光電材料為于超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底上復(fù)合納米花球狀的六方ZnIn2S4構(gòu)建成異質(zhì)結(jié)體系復(fù)合光電材料;
所述超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底為通過調(diào)控初始反應(yīng)物濃度利用一步水熱法在導(dǎo)電玻璃基材上直接生長TiO2光電材料;
所述復(fù)合為通過二次水熱將納米花球狀的六方ZnIn2S4原位生長在超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底上;
所述超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底為將干凈的FTO導(dǎo)電玻璃置于高壓反應(yīng)釜中,加入溶液a在170-190℃下水熱合成6-12小時,直接生長超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底;其中,溶液a 為草酸鈦鉀粉末溶于去離子水H2O和一縮二乙二醇DEG的溶液,且 H2O和DEG的體積比為(0.9-1.10):(2.7-3.3),溶液a中草酸鈦鉀粉末的終濃度為1.98-2.02mM;
所述二次水熱為將超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底置于高壓反應(yīng)釜中,加入溶液b在180-220℃下水熱合成9-15小時,使納米花球狀的六方ZnIn2S4原位生長在超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底上,并且兩者界面充分接觸;其中,溶液b為ZnCl2、InCl3和TAA溶于去離子水的溶液,且 ZnCl2、InCl3和TAA的物質(zhì)的量比為(0.9-1.1):(1.8-2.2):(3.6-4.4);溶液b中ZnCl2的終濃度為30-40 mM。
2.一種權(quán)利要求1所述的用于光電化學(xué)陰極保護(hù)的ZnIn2S4/TiO2納米草叢復(fù)合光電材料的制備方法,其特征在于:通過一步水熱法在導(dǎo)電玻璃基材上直接生長超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底,再通過二次水熱將納米花球狀的六方ZnIn2S4原位生長在超細(xì)高度支化TiO2納米草叢基底上,兩者充分接觸形成ZnIn2S4/TiO2納米草叢異質(zhì)結(jié)復(fù)合光電材料。
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