[發(fā)明專利]一種含聚合物的納米線復合薄膜材料的制備方法及其應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110090856.2 | 申請日： | 2021-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN112928346B | 公開（公告）日： | 2022-02-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 徐林;程宇;陳一鳴;麥立強 | 申請（專利權）人： | 佛山仙湖實驗室 |
| 主分類號： | H01M10/42 | 分類號： | H01M10/42;H01M4/62;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 黃琳娟 |
| 地址： | 528200 廣東省佛山市南海區(qū)丹灶鎮(zhèn)*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 聚合物 納米 復合 薄膜 材料 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種含聚合物的納米線復合薄膜材料，其特征在于，所述含聚合物的納米線復合薄膜材料從上至下依次包括聚合物層、復合層和功能界面層，
其中，
所述復合層包括石墨烯和納米線復合而成的框架結構，所述框架結構中具有空隙，所述空隙中填充有聚合物；
所述功能界面層由所述石墨烯和納米線復合而成的框架結構組成；
所述聚合物為聚氧化乙烯；
所述納米線為H2V3O8納米線。
2.根據權利要求1所述含聚合物的納米線復合薄膜材料，其特征在于，所述復合層中聚合物的含量為所述復合層的40-50wt％。
3.根據權利要求1所述含聚合物的納米線復合薄膜材料，其特征在于，所述復合層的厚度為25-35μm。
4.根據權利要求1所述含聚合物的納米線復合薄膜材料，其特征在于，所述含聚合物的納米線復合薄膜材料的厚度為30-40μm。
5.根據權利要求1所述含聚合物的納米線復合薄膜材料，其特征在于，所述納米線的直徑為100-200nm，所述納米線的長度為5-10μm。
6.根據權利要求1-5任一項所述含聚合物的納米線復合薄膜材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1.將納米線和石墨烯分散在水中，除去水后得到含納米線的薄膜；
S2.將所述聚合物、鋰鹽和乙腈混勻，得到電解質溶液；
S3.取所述電解質溶液滴加在所述含納米線的薄膜表面，靜置后干燥。
7.根據權利要求6所述含聚合物的納米線復合薄膜材料的制備方法，其特征在于，所述電解質溶液中，所述聚合物的濃度為0.05-0.1g mL-1。
8.根據權利要求6所述含聚合物的納米線復合薄膜材料的制備方法，其特征在于，所述電解質溶液中，所述鋰鹽的濃度為0.02-0.06g mL-1。
9.權利要求1-5任一項所述含聚合物的納米線復合薄膜材料在固態(tài)電池中的應用。
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