[發明專利]成像光學系統、取像模組和電子裝置在審
| 申請號: | 202110088991.3 | 申請日: | 2021-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN112764198A | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發明(設計)人: | 王妮妮;劉彬彬;李明;鄒海榮 | 申請(專利權)人: | 江西晶超光學有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/18;G02B13/02;G03B17/17;G03B30/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李巖 |
| 地址: | 330096 江西省南昌市*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 光學系統 模組 電子 裝置 | ||
1.一種成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統沿著光軸從物側至像側依次包括:
三棱鏡;
具有屈折力的第一透鏡;
具有屈折力的第二透鏡;
具有屈折力的第三透鏡;
具有屈折力的第四透鏡;
所述成像光學系統滿足條件式:
1≤(n1+n2+n3+n4)*T14/f≤4;
其中,n1為所述第一透鏡的折射率,n2為所述第二透鏡的折射率,n3為所述第三透鏡的折射率,n4為所述第四透鏡的折射率,T14為所述第一透鏡的物側面至所述第四透鏡的像側面在光軸上的距離,f為所述成像光學系統的有效焦距。
2.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
1mm-1≤MVd/f≤3mm-1;
其中,MVd為所述第一透鏡到所述第四透鏡的阿貝數的平均值。
3.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0mm-1≤MAX1/(MIN1*f)≤1mm-1;
其中,MAX1為所述第一透鏡的物側面有效徑內至所述第一透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最大距離,MIN1為所述第一透鏡的物側面有效徑內至所述第一透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
4.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0mm-1≤MAX2/(MIN2*f)≤1mm-1;
其中,MAX2為所述第二透鏡的物側面有效徑內至所述第二透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最大距離,MIN2為所述第二透鏡的物側面有效徑內至所述第二透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
5.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0mm-1≤MAX3/(MIN3*f)≤1mm-1;
其中,MAX3為所述第三透鏡的物側面有效徑內至所述第三透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最大距離,MIN3為所述第三透鏡的物側面有效徑內至所述第三透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
6.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0mm-1≤MAX4/(MIN4*f)≤1mm-1;
其中,MAX4為所述第四透鏡的物側面有效徑內至所述第四透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最大距離,MIN4為所述第四透鏡的物側面有效徑內至所述第四透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
7.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0≤MIN1/T14≤1;
其中,MIN1為所述第一透鏡的物側面有效徑內至所述第一透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
8.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0≤MIN2/T14≤1;
其中,MIN2為所述第二透鏡的物側面有效徑內至所述第二透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
9.根據權利要求1所述的成像光學系統,其特征在于,所述成像光學系統滿足以下條件式:
0≤MIN4/T14≤1;
其中,MIN4為所述第四透鏡的物側面有效徑內至所述第四透鏡的像側面有效徑內在平行于光軸方向上的最小距離。
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